有g机化学-保护基团.ppt

去除：AcOH H2O THF 2．2—甲氧基乙氧甲基醚(MEM醚) 2-甲氧基乙氧甲基醚(R—O—CH2OCH2CH2OCH3，R—O—MEM)是最常用缩醛型的羟基保护基之一。 可用于保护伯、仲、叔醇。醇在氢化钠等强碱作用形成的烃氧基负离子与2—甲氧基乙氧甲基氯(ClCH2OCH2CH2OCH3)反应生成MEM醚。2—甲氧基乙氧甲基氯与叔胺形成的季铵盐与醇直接作用也可以制备MEM醚。所用的叔胺可以使三乙胺、二异丙基乙胺等。MEM醚的裂解条件是溴化锌／三氯甲烷或四氯化钛／三氯甲烷体系。MEM醚的生成和裂解都在非质子条件下完成。 但在温和酸性水解条件下， 如：AcOH—H2O／25℃，4h, TsOH(催化剂)／MeOH，／23℃，3h， 不发生裂解。 3. 四氢吡喃醚(THP醚) 四氢吡喃醚是环状缩醛保护基(R-O-THP醚)。四氢吡喃醚是由二氢吡喃醚与醇在酸催化下制得。四氢吡喃保护基的2—位的不对称碳原子存在，如果被保护的醇含有手性中心，当四氢吡喃基保护时，得到的化合物将会有非对映异构体生成。四氢吡喃醚在中性或碱性条件下稳定，对酸水或路易斯酸易分解。去保护可以在酸性水溶液中进行。 银胶菊碱的中间体的合成过程中，应用四氢吡喃醚保护有利于羰基a—位烃化的立体选择性，如羟基不用四氢吡喃基保护，会影响烃化反应的立体化学性质。 小结：醇的保护： 形成缩酮 形成醚 MOM 甲基醚 叔丁基醚 苄基醚 形成酯 MEM THP 乙酸酯 苯甲酸酯 硅醚 三、二醇的保护 1，2－二醇 1，3－二醇 （一）形成缩酮、缩醛 用醛、酮：丙酮、环己酮、苯甲醛或其烯醇醚 （2－甲氧基丙烯）等 在酸催化下进行。 糖类，甘油 脱保护： 稀酸水溶液，rt; 或加热。 2．用光气保护 顺式二醇，得到碳酸环酯 四、羰基的保护 （一）形成缩酮或其他等价物 反应活性： 醛链状羰基环己酮a,b-不饱和酮苯基酮 环状缩酮较稳定。 酸水解的相对速率： （二）、形成缩硫酮 保护：酸催化 ? 去保护: HgCl2，CdCO3 Hg(ClO4)2，MeOH，25oC * 第七章 保护基团 (protective groups) 参考文献： T. W. Greene, Protective groups in organic synthesis, third edition selectivity 是手段不是目的 一、概述：理想保护基团的标准 1．保护基的来源，经济性 2．容易引入，保护效率高 3．保护基的引入对化合物的结构不应增加过量的复 杂性，如新手性中心等。 4．保护后的化合物在后面的反应中要求稳定 5．保护后的化合物对分离、纯化和层析要稳定 6．能在高度专一的条件下选择性、高效脱除、不影 响分子其余部分。 7．去保护后的主产物要易于分离。 8．有时还可以将保护基转换为其他官能团。 二、羟基的保护 （一）形成醚 1.甲基醚 I. 保护 （1） 有机溶剂, 产率60—90% （2）MeI, Me2SO4 NaH, KI，THF,引入甲醚无很大位阻影响 （3）CH2N2 （重氮甲烷） 硅胶 /HBF4 （4）MeI, Ag2O II．去保护 Lewis酸 Me3SiI/CHCl3， BBr3， CH2Cl2。 浓HI 2．形成叔丁基醚类 ROC(CH3)3 去保护： 无水CF3COOH， 0-20oC. 2M HCl, CH2OH HBr, AcOH, 20oC 30分钟 3．苄醚 ROCH2Ph, Bn-OR BnCl, KOH(粉末)，130－140o, 苄氯或苄溴与醇形成苄醚。 优先保护伯醇 4.形成硅醚 硅醚保护：Me3Si（TMS）， Et3Si（TES）， t-BuMe2Si(TBDMS), t-BuPh2Si(TBDPS), i-Pr3Si(TIPS). 水解活性次序： 1o2o; 脂肪族芳香族 对酸的稳定性次序： TMS (1) TES (64) TBS (20,000) TIPS (700,000) TBDPS (5,000,000) 对碱的稳定性次序： TMS (1) TES (10-100) TBS ~ TBDPS (20,000) TIPS (100,000) 含活泼氢的基团可以用硅烷化保护，反应活性次序： ROHArOHCOOHNHCONHSH. （1）三甲基硅醚 ROSi(CH3)3 在酸中不稳定 极不稳定，遇水分解，应保持无水环境。可以与亲核试剂反应，如格氏试剂，氢化反应，氢化物还原都会影响，因此它属于暂时羟基保护，