第三章晶体的结构缺陷探究.ppt

第三章 晶体的结构缺陷 实际晶体中的缺陷，按照它们的作用范围可分为四大类，即点缺陷（零维缺陷）、线缺陷（一维缺陷）、面缺陷（二维缺陷）和体缺陷（三维缺陷）。 点缺陷，就是在晶体的三维方向上缺陷的尺度很小，可以看作点，是在晶体结构中某些位置发生的，受其影响范围很小，仅局限于几个原子的范围。 体缺陷，是指在三维方向上尺寸都比较大的缺陷。 线缺陷，是指在一维方向上尺寸比较大的缺陷，如晶体中沿某一条线附近的质点的排列偏离了理想的晶体点阵结构。 面缺陷，是指在二维方向上尺寸比较大的缺陷。 线缺陷、面缺陷和体缺陷尺度相对较大，线缺陷可直接被电子显微镜观察到,又叫作显微缺陷。 Type 第一节 点缺陷 (point defects) 晶体中点缺陷的种类： （1)本征缺陷：表现为晶格位置缺陷，主要指在晶体点阵的正常结点位置上应该出现的质点没有出现，使结点位置空着，形成了空位(vacancy)。或者在晶格空隙中正常情况下不该有质点的地方出现了质点，这种情况称为间隙质点(interstitial)。还有一种点缺陷为AB两种质点的格点位置互相发生错位。 （2)杂质缺陷，外来杂质的质点取代了正常晶格质点的位置（取代缺陷），或进入正常结点的间隙位置（间隙缺陷），它们在晶体中以杂质形式存在。 （3)电子缺陷，在晶体中某些质点的个别电子处于激发状态，甚至离开原来的质点，成为自由电子，在原来的电子轨道上留下了电