HFCVD法制备金刚石薄膜试卷.pptVIP

* HFCVD法制备金刚石薄膜 胡衎 苏峰 王智文 胡巍巍 王仲涛 张彧 周傲 鞠江伟 内容 金刚石薄膜简介 HFCVD法制备金刚石薄膜 结构及性能分析 小结 * 简介 金刚石薄膜的许多优异性能是其它材料所无法比拟的，它具有天然金刚石般的硬度和弹性模量，极高的热导率，非常好的化学稳定性，以及优越的光学特性，在很宽的光波范围内透明，并具有很高的折射率，另外它的禁带宽度高，介电常数非常低。这些优良的特性使它被广泛用于工具涂层、半导体制造及光学窗口等领域。 * * 金刚石薄膜的合成方法 碳的平衡相图 * 各种化学气相沉积方法的比较 * * 优点 反应过程 * 反应气体 过饱和的 活性基团 热、光子 等离子 表面 反应 H 气化或溶解 金刚石 石墨 CH4/H2 H,CH3,CH2,C2H2 * 实验装置 衬底预处理： 划痕 研磨 结构及性能分析 * 金刚石薄膜的SEM图 金刚石薄膜的AFM图 * 金刚石薄膜的拉曼光谱 金刚石薄膜的XRD图谱 * 不同工艺参数下样品的透射光谱 ( a) 碳源浓度( b) 反应室压强( c) 衬底温度( d) 生长时间 沉积参数 数值 碳源浓度 2% 反应室压强/kPa 2.4 衬底温度/℃ 750 沉积时间/h 1 * 工件材料： 石墨 切削速度：15500r/min 进给量：2000mm/min 切削深度： 0.