4XPS.pptVIP

第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 XPS survey of the MAO coatings without and with heat treatment before and after etching: (a) before etching and (b) after etching. f. XPS的应用 f.3 钛表面微弧氧化涂层分析 第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 XPS high-resolution spectra of Si2p and Ca2p of the MAO coatings without and with heat treatment: (a) and (b) Si2p before and after etching, (c) and (d) Ca2p before and after etching. f. XPS的应用 f.3 钛表面微弧氧化涂层分析 第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 XPS high-resolution spectra of Si2p and Ca2p of the MAO coatings without and with heat treatment: (a) and (b) Si2p before and after etching, (c) and (d) Ca2p before and after etching. f. XPS的应用 f.3 钛表面微弧氧化涂层分析 第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 XPS high-resolution spectra of Si2p and Ca2p of the MAO coatings without and with heat treatment: (a) and (b) Si2p before and after etching, (c) and (d) Ca2p before and after etching. f. XPS的应用 f.3 钛表面微弧氧化涂层分析 第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 XPS high-resolution spectra of Ti2p and O1s of the MAO coatings without and with heat treatment: (a) and (b) Ti2p before and after etching, (c) and (d) O1s before and after etching. f. XPS的应用 f.3 钛表面微弧氧化涂层分析 第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 扩展的谱示于小插图，是Te(碲)的3d双线。由插图a(1))可见，Te的3d线实际上有四条，强度高的代表元素Te，强度较低的是TeO2中的Te。当用氩离子溅射除去氧化层后，只剩下Te的3d双线(图a(2))。图中，除了XPS峰之外还有俄歇峰，Cd和Te的MNN俄歇峰。 c. XPS能谱的特征 c.2 典型能谱 由于原子所处的化学环境不同而引起的内层电子结合能的变化，在谱图上表现为谱峰的位移，这一现象称为化学位移。 化学位移的分析、测定，是XPS分析中的一项主要内容，是判定原子化合态的重要依据。 第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 c. XPS能谱的特征 c.3 化学位移 第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 当外层电子密度减少时，屏蔽作用将减弱，内层电子的结合能增加；反之则结合能将减少。 库仑作用 屏蔽作用 内层电子 外层电子 原子核 c. XPS能谱的特征 c.3 化学位移 原子所处化学环境不同有两个含义： 1、它相结合的元素种类和数量不同 2、原子具有不同的价态。 纯铝原子在化学上是零价态，其2p能级电子结合能是72.4eV；当被氧化反应化合成Al2O3后。Al为正三价，由于其周围环境与单质铝不同，这时2p能级电子结合能为75.3eV，增加了2.9eV，即化学位移是2.9eV。 第一章 材料成分分析 1.2 材料表面成分及深度分析 1.2.1 X射线光电子能谱分析 c. XPS能谱的特征 c.3 化学位移 与元素电负性的关系 三氟乙酸乙酯 电负性：FOCH 4个碳元素所处化学环境不同； 第一章 材料成分分析 1