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* 自主研发，仅供自用。 日亚公司和丰田合成 其市场基本限于日本国内，不对外国出售。 日本酸素(NIPPON Sanso)和日新电机(Nissin Electric)等 占20%以上。 美国VEECO公司（美国维易科精密仪器有限公司） 2008年AIXTRON公司MOCVD复合半导体设备的全球占有率达到72%。 德国AIXTRON公司(德国艾思强公司) 情况 生产厂家 MOCVD构造： 　　（1）气体操作系统： 　　气体操作系统包括控制Ⅲ族金属有机源和V族氢化物源的气流及其混合物所采用的所有的阀门、泵以及各种设备和管路。其中，最重要的是对通入反应室进行反应的原材料的量进行精确控制的部分。主要包括对流量进行控制的质量流量控制计（MFC），对压力进行控制的压力控制器。 　　 　　（2）反应室： 　　反应室是MOCVD生长系统的核心组成部分，反应室的设计对生长的效果有至关重要的影响。不同的MOCVD设备的生产厂家对反应室的设计也有所不同。但是，最终的目的是相同的，即避免在反应室中出现离壁射流和湍流的存在，保证只存在层流，从而实现在反应室内的气流和温度的均匀分布，有利于大面积均匀生长。 　　 （3）加热系统： 　　MOCVD系统中衬底的加热方式主要有三种：射频,红外辐射和电阻加热。 　　 （4）尾气处理系统： 　　由于MOCVD系统中所采用的大多数源均易燃