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非线性曲线拟合法确定邻近效应参数 投稿：蒋燕燖 微细加工技术 M IC R O FA BR I CA T IO N T E CH N O L OGY No . 2 Apr . 2 00 6 文章编号: 1003-8213(2006)02-0012-004 非 线性 曲线 拟合 法确定 邻 近效 应参 数 郝慧娟， 张玉林 ， 宋会英， 强 魏 ( 山东大学 控制学院 电子束研究所， 济南 250061) 摘要:为了更精确地确定邻近效应参数， 借助优化的电子散射模型， 利用改进的 Monte Carlo 算法模 拟了电子束在固 体中的散射过程， 得到了不同曝光条件下抗蚀剂中的能量沉积分布。利用最小二 乘 非线性曲 线拟合法 对该分布 进行了 斯拟合， 双高 得到了 邻近效应参数。 ,R和， 值， 的 并与实 验 结果进行 了比较发现， 最小二乘非线性曲线拟合法可以用于邻近效应参数的确定。对不同曝光条 件的 数 参 拟合显示， 加 增 入射电 束能 。 子 量， 减小，增大， 几乎不 9 而， 变;增 杭 厚 。 ， 加 蚀剂 度，增大 R和， 化 明 变 不 显;增 衬 材 原 序 9 减 ，增大 而。 乎 变 所 结 不 为 子 大 底 料 子 数1 小 ， ， 几 不 。 得 果 但能 电 束 曝光条件的优化、 郁近效应的降T1提 },} 供理论指导， 而且还能为部近效应校正快速地提供精确的参数。 关 键 词: 曲线拟合; Monte Carlo 模拟;最小二乘法; 电子束光刻;邻近效应 中图分类号: TN305 .7 文献标识码 :A 1 引言 电子束光刻是目 前所公认的最好的高分辨率图 这是一个很难准确测量的值， 因此用实验方法得到 的。 精确度 低。 的 精确度 会 致， 值 较 而。 低 又 导 出 形制作技术， 主要用于0. 1Fm一 rtm的 .c 0.5 超微细加 工， 在实验室条件下， 已能将电子束聚焦成尺寸小于 现较大的误差。另外， 由于这些参数还受曝光条件 (入射电子束能量、 抗蚀剂材料、 抗蚀剂厚度、 衬底材 料等)和显影过程的影响， 如果其中的某一条件发生 变化 ， 就需要重新确定这些参数。为了减少实验次 2 nm的束斑〔 21， ‘ 实现纳米级曝光。 一 但电子束曝光 分辨率的一个重要限制是邻近效应， 它会导致实际 曝光区域与希望曝光区域的不一致。邻近效应函数 数，低由 测 引 误 Parikh和K ]对 降 于 量 起的 差， yser[b 利用 Monte Carlo( MC)方法得到的模拟结果用最小 二乘线性拟合法分别对前散射和背散射模拟结果进 行了单高斯拟合， 获得邻近效应参数。结果显示 ， 背 散射拟合效果较好， 但前散射误差较大。本文采用 优化的电子散射模型和改进的 Monte Carlo( MC)算 法， 模拟电子束在抗蚀剂和衬底中的散射过程， 得到 了抗蚀剂中的能量沉积分布， 用最小二乘法非线性 曲 线拟合的方法对模拟结果进行了双高斯数据拟 合， 确定了邻近效应参数的值， 并与实验结果进行了 比 较。结 果显示， 改进的 MC 方法在保证精度的同 时， 提高了模拟的计算速度， 拟合得到的参数值误差 可 采 以 用Chang提出 双 斯函 [’ 似 示: 的 高 数」 表 近 f (r) =二 ， (1+ ) 1 一” 一 )l (‘ ‘ a (r z ， / /R 式中: 。 分别是前散射和背散射作用的特征半 和R 宽， 数， 背 参 是 散射电 积的 能 前散射电 子沉 总 量与 子 积的 能 之比 参 1 沉 总 量 。 数。R和刀 对 效 是 邻近 应 特性的表征， 因此， 要实现邻近效应的校正， 必须精 确 定。 和， 值。 些参 确 19 的 这 数虽然 通过实验 可以 方法[4- 5〕 来测定， 但实验方法不但需要曝光特定图 形， 并精确地测量严重的过曝光区域， 而且还需要测 定抗蚀剂的 显影阂 一般情况下， 小于 1f m, 值。 。 0. 也较小。 收稿 日 期:2005-08-20 ;修订 日 期:2005-11-16 基金项目: 国家自 然科学基金重大研究计划资助项目 ; 山东省自 然科学基金资助项 目( Y2003G03) ; 山东省科技 攻关计划基金资助项目(022090105) 作者简介:郝慧娟( 1978 一 ， 山东巨野人， ) 女， 博士研究生， 从事电子束三维加工及邻近效应研究;