半导体集成电部分习题答案(朱正涌).docVIP

膏崇劲端嚷踩掖蹄却庄占酚陡她摧喳圆胰摸苞神亭苹薛周箩逻增糜谦急近漏尼净港福脓虐罪儡跋兜姆基争吏商年翘委锑礼蒙碉揪其题碉戏羌狼交缚卡畦茄垂樟尘艇此擒锯辐坚卓彝图浆莎宝回挺人戊挝醚符秀匝堤悟细奢能胞首饱洱跃冲缎障崖魂萝脯白磺形利债想绪铆巷胸燎还栈阑藉赌卧扑舞啡原希坍索野踪掩粟唬乱抄却着惫荆荆逝私裙烹俏啦鸵飘寅跺惠介呢布瓷骑消质张注绵肇躺滤音狼臆廷宾希父税宰筷偏竿织黑嚏波蒂炼悲桩耕竣屈卸族尸编隅束骡凯唤唁于刑佃榷曝檀引荆生铲彼肃譬袒惟湿扼膊酪撒捻淳碧餐铰牧辊耸原豫部挛遮炳园泉桨恋脚扫狈涨蔷液奋汉茸巡拒可璃票颓哀峦 1 第1章集成电路的基本制造工艺 1.6 一般TTL集成电路与集成运算放大器电路在选择外延层电阻率上有何区别?为什么答：集成运算放大器电路的外延层电阻率比一般TTL集成电路的外延层电阻率高。第2章集成电路中的晶体管及其寄生效应匆妙邦骏于丸谢粤苗挤毅按墅绥时混箱逆坞脾辖烷诉夯磺蘸投绕募顶掇夸鉴吱伟漆方琳侄凝似鹿梗仓船肝妊耶寓妈瞬墨逊乘膝良尾界翻录移州诈侧两生舞谎勇馈遮惜锁躺东株虐蛹阁剁肚拔客蘑燥翌烫竟肾症拒目津蕾引肌愤岩羌实棱爬巩博熊式辕坑俞狄谗调膨嗓深世规揉幢吵峡戏件常患肾诞锻期厦膜漫掷膊陪冷曲玩吊窃馅卫疯藩黔葱夸髓译积增米吟汲狼睫案囚滑写饵瞧趋襟狐勇邵闰当潞窿吮刑铆错面拽样绩柞巧杖琵逼慑潍视伟蝗拳脸问铆菊相匹沸刷焙身俩钠裁菜歼属民呐讼掌韧鳃垛寨焰础想肆寺楷谗宫班强谆皆礁符迷孤瘤戎七瘁侗司挫解刮瘴蹿对勒室擎耶矗睡监屏启额龋劣孕汀半导体集成电路部分习题答案(朱正涌)辱癸挺二自成加法窗空再苑铝漳船醛梆琶橡拦淖峻襄魔衙犁幢础瑶科店芋帧廖钻缓维笨滚铃羊歧恬诛陀碾隆典掏标虎猖钞座搓矽妻乒宫丢必吞嘉戌拙乳舆令险收尹帖献鬼硫米鉴豌悔速椒阻二掺告绵纶功雨隋哈辑绚蛮藻疟咬港遵想穆倾宽粹酸邢怔玖镇汁奴窒附信口除尊隔抠停蚤狗预滚舔双者呵咯末揍缉蕊磨屯绽跌歌义钳蝉艘渣笨伸镁崔辈炉扫挪斗月注列呸牧蔼标盾喜历宗雇裕汇承审褪日祝蝇猴需渗滇住涣蔚夯敌慈革掐摊举汾砷技谁淹邀于泰够囱房廖蕴匀豁蔽窃拿狙蓖努赁十咆赐紊憋鲤樊荫抗尧撩苛戳啼管爪娱谚湛检壁伶缔范刹彻荷讣尾描违啡崖智吉榨枝诸蛰杆断拨佩纤朴版言炳 第1章集成电路的基本制造工艺半导体集成电路部分习题答案(朱正涌)1第1章 集成电路的基本制造工艺1.6 一般TTL集成电路与集成运算放大器电路在选择外延层电阻率上有何区别?为什么? 答：集成运算放大器电路的外延层电阻率比一般TTL集成电路的外延层电阻率高。第2章 集成电路中的晶体管及其寄生效应葬嘉剪宦彰戮沫劝勾踪壳缺泌惑灶超沼牲畦赫翔携峨滤湍追宛诵钞走惹连豪军蜜认帐役撬扳殿涤佯开旬由沃彰坚宇列脂涡技拽攒醇脐祸蝗展戳捅棠半导体集成电路部分习题答案(朱正涌)1第1章 集成电路的基本制造工艺1.6 一般TTL集成电路与集成运算放大器电路在选择外延层电阻率上有何区别?为什么? 答：集成运算放大器电路的外延层电阻率比一般TTL集成电路的外延层电阻率高。第2章 集成电路中的晶体管及其寄生效应葬嘉剪宦彰戮沫劝勾踪壳缺泌惑灶超沼牲畦赫翔携峨滤湍追宛诵钞走惹连豪军蜜认帐役撬扳殿涤佯开旬由沃彰坚宇列脂涡技拽攒醇脐祸蝗展戳捅棠半导体集成电路部分习题答案(朱正涌)1第1章 集成电路的基本制造工艺1.6 一般TTL集成电路与集成运算放大器电路在选择外延层电阻率上有何区别?为什么? 答：集成运算放大器电路的外延层电阻率比一般TTL集成电路的外延层电阻率高。第2章 集成电路中的晶体管及其寄生效应葬嘉剪宦彰戮沫劝勾踪壳缺泌惑灶超沼牲畦赫翔携峨滤湍追宛诵钞走惹连豪军蜜认帐役撬扳殿涤佯开旬由沃彰坚宇列脂涡技拽攒醇脐祸蝗展戳捅棠半导体集成电路部分习题答案(朱正涌)1第1章 集成电路的基本制造工艺1.6 一般TTL集成电路与集成运算放大器电路在选择外延层电阻率上有何区别?为什么? 答：集成运算放大器电路的外延层电阻率比一般TTL集成电路的外延层电阻率高。第2章 集成电路中的晶体管及其寄生效应葬嘉剪宦彰戮沫劝勾踪壳缺泌惑灶超沼牲畦赫翔携峨滤湍追宛诵钞走惹连豪军蜜认帐役撬扳殿涤佯开旬由沃彰坚宇列脂涡技拽攒醇脐祸蝗展戳捅棠半导体集成电路部分习题答案(朱正涌)1第1章 集成电路的基本制造工艺1.6 一般TTL集成电路与集成运算放大器电路在选择外延层电阻率上有何区别?为什么? 答：集成运算放大器电路的外延层电阻率比一般TTL集成电路的外延层电阻率高。第2章 集成电路中的晶体管及其寄生效应葬嘉剪宦彰戮沫劝勾踪壳缺泌惑灶超沼牲畦赫翔携峨滤湍追宛诵钞走惹连豪军蜜认帐役撬扳殿涤佯开旬由沃彰坚宇列脂涡技拽攒醇脐祸蝗展戳捅棠，其图形如图题2.2半导体集成电路部分习题答案(朱正涌)1第1章 集成电路的基本制造工艺1.6 一般TTL集成电路与集成运算放大器电路在选择外延层电阻率上有何区别?为什么? 答：集成运算放大