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- 2016-12-11 发布于湖北
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* 3.3 缓变基区晶体管的电流放大系数 本节以 NPN 管为例,结电压为 VBE 与 VBC 。 P N+ N 0 xjc xje NE(x) NB(x) NC x 0 xjc xje 基区杂质分布的不均匀会在基区中产生一个内建电场 E ,使少子在基区内以漂移运动为主,所以缓变基区晶体管又称为漂移晶体管。 本节求基区输运系数 的思路 进而求出基区渡越时间 将 E 代入少子电流密度方程,求出 JnE、nB(x) 与 QB 令基区多子电流密度为零,解出基区内建电场 E 最后求出 3.3.1 基区内建电场的形成 NB(x) NB(WB) NB(0) WB 0 x 在实际的缓变基区晶体管中, 的值为 4 ~ 8。 设基区杂质浓度分布为 式中 是表征基区内杂质变化程度的一个参数, 当 时为均匀基区; 因为 , ,所以内建电场对渡越基区的电子起加速作用,是 加速场。 令基区多子电流密度为零, 解得 内建电场 为 小注入时,
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