薄膜的形成过程及生长方式答题.pptVIP

薄膜的形成过程及生长方式 主讲人：张宝贤 学号班级：12级3班 目录 5.1 薄膜生长过程概述 5.2 形核阶段 5.3 薄膜生长过程与薄膜结构 习题 5.1、薄膜生长过程概述 薄膜的生长可划分为两个不同阶段： 新相的形核阶段 薄膜的生长阶段 5.1.1 形核 形核是薄膜的诞生阶段，从本质上讲是一个气－固相变的过程。 5.12薄膜的生长模式 1. 岛状模式 在绝缘体、卤化物晶体、石墨、云母等非金属衬底上沉积金属大多数都是这一生长模式。 2. 层状模式 例如，半导体膜的单晶外延生长就是这种模式。 5.2 形核阶段 新相的形核过程分为两种类型：即自发形核和非自发形核。 所谓自发形核指的是整个形核过程完全是在相变自由能的推动下进行的； 非自发形核则指的是除了有相变自由能做推动力外，还有其他的因素起着帮助新相核心生成的作用。 温度越高，则需要形成的临界核心的尺寸越大，形核的临界自由能势垒也越高，这与高温时沉积的薄膜首先形成粗大的岛状组织相吻合。 低温时，临界形核自由能下降，形成的核心的数目增加，将有利于形成晶粒细小而连续的薄膜组织。 5.3 、薄膜生长过程与薄膜结构 薄膜的生长模式可以分为外延式生长和非外延式生长两种生长模式。 5.3.2 低温抑制型薄膜生长