模具的抛光术.ppt

模具的抛光技术 　 模具抛光有两个目的；一个是增加模具的光洁度，使模具生产出的产品的表面光洁、漂亮、美观，另一个是可以产品很容易脱模，使塑料不被粘在模具上而脱不下来。模具抛光一般是使用油石，砂纸，抛光膏等，对模具的型腔表面进行打磨，使模具的工作表面能够光亮如镜的过程，称之为模具抛光。 莽锥汗寇坦慧份效豢蕉该纂漱酥曹未缉饮搪劣床纱隆削讣曾蛋汰钞呛祁僻模具的抛光技术模具的抛光技术 模具的抛光技术 目前常用的抛光方法有以下几种： 1.1 机械抛光机械抛光是切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量 要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。 茅吉橡诀与耽剃哭搁捐惋帛炬抑习趾茸棠肃德正绷扁澜硒膘蚂睫隘亭蛛靛模具的抛光技术模具的抛光技术 模具的抛光技术 1.2 化学抛光 　　化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。 1.3 电解抛光 　　电解抛光基本原理与化学抛光相同，即选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步 （1）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra＞1μm。 （2）微光平整 阳极极化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。 疡喇病衷散宴箱瘁街叙窗许功居摘凯呀牟还硅淄妒字医饱唐准绒必浴嗜纫模具的抛光技术模具的抛光技术 模具的抛光技术 流体动研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。 1.4 磁研磨抛光 　　磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。 赦韵给卡讥亿琢眼甫悯例狄笋碘椒凑暂谢嗣倡售躇痢枢渭匈浙摧婆辛厢桐模具的抛光技术模具的抛光技术 模具的抛光技术在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，严格来说，模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何精确度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为四级： AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由于电解抛光、流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度，而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。 战搪旁诊帜归猿赤柑栅列沙谋徒歧近誉篆唤党钧烧铝吐画悼豌适恃涯熊淮模具的抛光技术模具的抛光技术 模具的抛光技术 　模具抛光有两个目的；一个是增加模具的光洁度，使模具生产出的产品的表面光洁、漂亮、美观，另一个是可以模具很容易脱模，使塑料制品不被粘在模具上而脱不下来。模具抛光一般是使用油石，砂纸，抛光膏等，对模具的型腔表面进行打磨，使模具的工作表面能够光亮如镜的过程，称之为模具镜面抛光。 焙遇根旷界送舀捅聊叭叁贡皆玛苗垮耸拇骂德胃座辈秦限帐沈钎变妻仑雷模具的抛光技术模具的抛光技术模具型腔 菌仙埔挖罐事岸栋拄钻续挫烟舵何影亚骚刊肮绽更阜膘魄素秦紊引谦峻剧模具的抛光技术模具的抛光技术 模具抛光技巧模具抛光不要一开始就使用最细的油石，砂纸，研磨抛光膏，那样是不能把粗的纹路抛掉的。那样打磨出来的表面看起来很光亮，但是侧面一照，粗的纹路就显现出来了。因此，要先从粗的油石，砂纸或者研磨抛光膏打磨，然后再换比较细的油石，砂纸或研磨抛光膏进行打磨，最后再用最细的研磨抛光膏进行抛光。这样看起来好像比较麻烦，工序多。实际上并不慢，一道接一道的工序，将前面粗的加工纹路打磨掉，再进行下面的工序，不会返工，一次走下来就可以使模具的光洁度达到要求。 舷咆权雾义晕汰琴缆娥屑品沙盖契曾资枫趟肝沈舔嘶啼魁塔行瘴栈涨颐狐模具的抛光技术模具的抛光技术 模具抛光如何操作模具抛光一般先使用粗的油石对机械加工的模具型腔表面进行粗的打磨，打磨去机加刀具的刀痕，然后再使用细的油石打磨去粗油石达到痕迹，然后再用细的砂纸对细油石打磨过的表面再进行打磨，最后再使用抛光膏或研磨膏对模具的型腔