温度控制系外文翻译.docVIP

毕业设计(论文)外文资料翻译 学 院： 机械工程学院 专 业： 机械设计制造及其自动化 姓 名： 学 号： 指导老师： 附 件： 1.外文资料翻译译文；2.外文原文。 指导教师评语： 签名： 年 月 日 附件1：外文资料翻译译文 光刻投影镜头多闭环温度控制系统 聂宏飞 1，李晓平1，＊，何艳2。 1国家重点实验室，数字制造装备与工艺，华中科技大学,武汉430074， 中国大学 2天华学院，上海师范大学，上海201815，中国 2008年5月27日收稿； 2009年1月8日修订； 2009年1月22日定稿； 2009年2月6日电子出版 摘要：图像质量是光学光刻工具的最重要指标之一，尤其易受温度、振动和投影镜头（PL）污染的影响。本地温度控制的传统方法更容易引入振动和污染，因此研发多闭环温度控制系统来控制PL内部温度，并隔离振动和污染的影响。一个新的远程间接温度控制（RITC）方案，提出了利用冷却水循环完成对PL的间接温度控制。嵌入温度控制单元（TCU）的加热器和冷却器用于控制冷却水的温度，并且，TCU必须远离PL,以避免震动和污染的影响。一种包含一个内部级联控制结构（CCS）和一个外部并行串联控制结构（PCCS）的新型多闭环控制结构被用来防止大惯性，多重迟滞，和RITC系统的多重干扰。一种非线性比例积分（PI）的算法应用，进一步提高收敛速度和控制过程的精度。不同的控制回路和算法的对比实验被用来验证对控制性能的影响。结果表明，精度达到0.006℃规格的多闭环温度控制系统收敛率快，鲁棒性强，自我适应能力好。该方法已成功地应用于光学光刻工具，制作了临近尺寸（CD）100纳米的模型，其性能令人满意。 关键词：投影镜头，远程间接温度串级控制结构，并行串连控制结构，非线性比例积分（PI）的算法 简 介 由于集成电路缩小，更小的临界尺寸（CD）要求，生产过程的控制越来越严格。作为最重要的制造工艺设备，先进的光学光刻工具需要更严格的微控制环境[1]，如严格控制其温度、洁净度、气压、湿度等。温度波动，特别是导致图像失真和平面图像转变，成为了光学光刻工具对图像质量影响的一个关键因素。投影镜头(PL)内的温度精度要求一个光刻工具在接近0.01℃制造一个小于100 nm的模型。另外需要PL内部温度收敛率快以降低光刻技术的所有权（CoD）的成本. 然而，实现这些目标是一个很大的挑战，因为加热器和冷却器控制温度要求操作远离PL[2], 否则其性能将被它们的振动和污染所破坏。另一个原因是，PL内部结构复杂，它包含数十个镜头，会导致几个小时惯性，所以PL内部的温度反应相当缓慢，并需要很长时间去调整适应。因此，一个新的结构和控制算法是PL内部温度控制的必要和重要部分。 许多温度控制结构已经被提出了。著名的经典方法之一是被广泛应用于简单或低精度温度控制系统的单闭环回路控制结构【3】。当被控对象变得更加复杂或产生分布式干扰时，串级控制结构（CCS）的提出改善了精度和收敛率【4，5】。预测前馈控制结构已被证明具有更好的滞后系统性能。另一种有效的方法，并行串级控制结构（PCCS），也开发了具有延迟分布式干扰的系统。但是上述使用方法，很难实现PL内部温度控制的高精确度和快收敛率。 在此，本文提出了一种新的方法，即多闭环温度控制系统，含有一个内部CCS和一个外部PCCS。本文大致分为四个部分。第一部分解释了一个远程间接温度控制方法的应用。第二部分是一个多闭环回路温度控制结构的分析。第三部分，一个双进双出非线性比例积分（PI）算法的提出用来提高控制过程的收敛速度和精度。在文章的最后一部分，对比实验验证了系统的有效性这种显示，最后，给出了结论。 2 远程间接温度控制方法 为了防止震动和污染影响PL的性能，一个远程间接温度控制的方法被提出来控制PL内部温度。不同于传统的直接加热和冷却控制对象的方法，它借助于冷却水和冷却套间的热交换使PL内部温度恒定。冷却水通过长距离管道由TCU输送至冷却外壳。TCU由水箱、温度传感器、温度控制器、加热器、冷却器和泵组成。它用于调节冷却水的温度以达到需求值。TCU和光刻工具放置在不同的洁净室，如图1所示。理论上，这种方法属于开环结构。 除了PL，其他光刻技术