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《薄膜技术与薄膜材料》课程期末试卷(B)
题号 一 二 三 四 总分 得分
选择
题号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 得分 评卷人 答案
一.选择题(每题 2 分,共 20 分)(请把答案填在上方题卡中)
1. 下面哪种真空泵不属于气体输运泵:( )
(A) 旋片式机械泵 (B) 复合分子泵
(C) 罗茨泵 (D) 吸附泵
普通三极型电离真空计的工作范围是:( )
(A) 102 ~10-1Pa (B) 105 ~10-2Pa
(C) 103 ~10-1Pa (D) 10-6 ~10-1Pa
下面关于电镀的描述哪一项不正确:( )
(A) 只适用于在导电的基片上沉积金属和合金
(B) 被镀基体金属为阳极
(C) 薄膜材料在电解液中是以正离子的形式存在
(D) 沉积物的质量遵从法拉第定律
4. 目前制备单分子膜沉积技术的是:( )
(A) 电镀 (B) 阳极氧化
(C) 化学镀 (D) LB技术
5. 完成化学镀的过程有三种方式,其中下面哪种不是:( )
(A) 置换沉积 (B) 接触沉积
(C) 还原沉积 (D) 氧化沉积
6.下面哪种选项不属于电阻加热蒸发法的缺点:( )
(A) 支撑坩埚及材料与蒸发物反应
(B) 蒸发率高
(C) 加热时合金或化合物会分解
(D) 难以获得足够高的温度,可蒸发材料受到限制
外延沉积技术对衬底的要求不合理的是:( )
(A) 在沉积温度下容易发生热分解
(B) 不受外延材料及蒸气的侵蚀
(C) 和外延材料有相近的热膨胀系数
(D) 晶格类型和晶格常数与外延材料匹配
直流辉光放电伏安特性曲线中,溅射所选择的工作区域是:( )
(A) 汤森放电区 (B) 正常辉光放电区
(C) 异常辉光放电区 (D) 弧光放电区
9. 各种溅射的基础条件是气氛和( )
(A) 高压 (B) 真空度
(C) 低压 (D) 溅射率
微量天平法实际上测量的是:( )
(A) 质量膜厚 (B) 形状膜厚
(C) 物性膜厚 (D) 表面膜厚
得分 评卷人 二、填空题(每空1分,共20分) 1. 典型的真空系统应包括:______________ , ______________和______________及一些必要的管道阀门等。
2. X射线衍射法中随分析样品的不同可分为适合单晶的______________,适合粉末材料和薄膜的______________及适合粉体材料的粉末法。
3. 薄膜应力是薄膜重要的力学性质,它对薄膜的实际应用影响很大,它可以分为______________和______________。
4. 电子衍射图案对于单晶衍射为______________ ,精细多晶为______________,大晶
粒多晶且包含织构为 ______________。
5. 岛状薄膜的形成过程可分为四个主要阶段,分别为______________,______________,______________,______________。
6. 溶胶是具有液体特征的胶体体系,分散的粒子是固体或者大分子,分散的粒子大小在 之间。
在离子镀膜成膜过程中,同时存在______________ 和 ______________,只有当前者超过后者时,才能发生薄膜的沉积。
纳米薄膜按结构可以分为:______________ , ______________和______________。
得分 评卷人 三、简答题(每小题5分,共40分) 1. 什么是化学气相沉积?有哪些常见类型?
2. 要得到质量较好的沉积膜,基体应满足什么条件?
什么是离子镀?离子镀膜可以分为哪些类别?
简述扫描电镜的工作原理。
5. 简述薄膜形成与生长的物理过程。
6.简述等离子体化学气相沉积中等离子体的作用是什么?
7. 何为有机金属化学气相沉积?对原料的要求是什么?
红外吸收和拉曼散射的原因是什么?为什么某些分子振动队红外吸收
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