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第六章 有机合成中的保护基 二、成醚保护 三、二醇的保护 第三节 羰基的保护 7、硅醚保护基 Trimethylsilyl ether (TMS) Triethylsilyl ether (TES) Tert-butyldimethylsilyl ether (TBDMS) Triisopropylsilyl ether (TIPS) Tert-butyldiphenylsilyl ether (TBDPS) Reagents: TMSCl or TMSOTf / base Deprotection: HF, TBAF Acid stability: TMSTESTBDMSTIPSTBDPS Base stability: TMSTESTBDMS-TBDPSTIPS （1） 缩酮、缩醛 （苄叉、丙酮叉、脂环酮叉） 酸水解去保护。苄叉还可用氢解反应。 （2）环状原酸酯 弱酸下去保护 （3）环状碳酸酯 碱性条件下去保护 第二节 氨基的保护 1、酰化形成酰胺 （1） 甲酰胺 HCl/CH3OH，Dioxane， 去保护 （2） 三氟乙酰胺 HCl/CH3OH，Dioxane， 去保护 肼解去保护 （3）邻苯二甲酰亚胺 2、氨基甲酸酯 （1）、氨基甲酸苄酯 催化加氢去保护， Pd-C/H2， Na/NH3（l） （2）、氨基甲酸叔丁酯 (BOC)2O, NaOH, H2O, 250, l0-30 min, 75-95% yield. ZnBr2, CH2CI2, 89-94% yield. 去保护 （3）9-Fluorenylmethyl Carbamate (Fmoc-NR2) excellent acid stability; BOC and benzyl-based groups can be removed in its presence. Fmoc-Cl, NaHCO3, aq. dioxane, 88-98% yield. Cleavage Bu4N+F-, DMF, rt, 2 min. NH3， Et2NH， 哌啶、吗啉（DMF，NMP， or MeCN） 3、N-磺酰基衍生物 Gribble， G. W. JOC，1992，57， 5891。 Gribble， G. W. JOC，1992，57， 5878。. 4、N-烷基类保护基 去保护：催化氢解，Pd（OH）2，钯黑 1、缩醛（酮） （1）1，2 –二醇 副产物：（TMS）2O 对水敏感的底物： Diederich， F. JACS， 1990，112，1607. * 将不希望发生反应的部位保护起来成为衍生物形式，待达到目的后再恢复到原来的官能团。 下列情况考虑应用保护基团： 保护一些基团后能控制反应的区域选择性 保护某些基团后有利于多种产物的分离 保护某些基团后能提高反应的立体选择性 保护基团（Protecting Groups）： 选择保护基时要考虑： 1、保护基的供应来源，经济易得 2、必须能容易地进行保护，且保护效率要高 5、保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地被除去 4、保护后的化合物要能承受得起以后进行的反应和后处理过程 3、保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂性，如引入新的手性中心 6、去保护过程的副产物和产物能容易被分离 酯类保护基的生成 酸酐/酰氯 溶剂：Py-CH2Cl2 Cat： DMAP Nicolaou， K. C.; Webber, S. E. Synthesis 1986, 717. 一、酯类保护基 第一节 羟基的保护 酯类保护基的除去 一般情况下，酯类保护基在碱性条件下除去，但各种酰基的水解能力不同： t-BuCO PhCO MeCO ClCH2CO…. 常用的碱：K2CO3， NH3， KCN，肼、胍、Et3N或 i-Pr2NEt 位阻较大的酯需要较强的碱性体系：KOH/MeOH 1、Formate Ester: ROOCH Formation 1、85% HCOOH, 60°C, 1 h, 93% yield primary alcohol of a pyranoside. 2、70% HCOOH, cat. HClO4, 50-550 C, good yields . 3、HCOOH, BF3*2MeOH, 90% yield. Cleavage 1、KHCO3, H2O, MeOH, 20°C, 3 days 2、 Dil. NH3, pH 11.2, 20°C , 62% yield. I. W. Hughes, F. Smith, and M.