Lecture23 第六章 理想MOS结构的表面空间电荷区课件.pptVIP

Micro Electromechanical System Research Center of Engineering and Technology of Anhui Province * Chap.6 MOSFET Lecture 23：§6.1 理想MOS结构的 表面空间电荷区 Prof. Gaobin Xu Micro Electromechanical System Research Center of Engineering and Technology of Anhui Province of Hefei University of Technology Hefei, Anhui 230009, China E-mail: gbxu@hfut.edu.cn Outline 1.结构与工作原理 2.半导体表面空间电荷区 3.载流子的积累、耗尽和反型 4.反型和强反型的条件 MOSFET： Metal-Oxide-Semiconductor Field-effect transistor 前言： 金属-氧化物-半导体场效应晶体管（MOSFET）是微处理器、半导体存储器等超大规模集成电路中的核心器件和主流器件，也是一种重要的功率器件。 一 结构与工作原理 MOSFET结构示意图 源极、衬底和漏极构成两个背靠背的二极管。在不加栅压时，只能有很小的反向饱和电流通过源漏极。当栅压足够大时，栅极下面半导体会反型。 衬底N型半导体－P型反型层－P沟道MOSFET 衬底P型半导体－N型反型层－N沟道MOSFET 反型层出现后，再增加电极上的电压，主要是反型层中的电子增加，由电离受主构成的耗尽层电荷基本上不再增加。 二 半导体表面空间电荷区 ① 在氧化物中或在氧化物和半导体之间的界面上不存在电荷 ② 金属和半导体之间的功函数差为零 ③ SiO2层是良好的绝缘体，能阻挡直流电流流过 理想MOS结构假设： 即使有外加电压，表面空间电荷区也处于热平衡状态，使得整个表面空间电荷区中费米能级为常数。 因此： ?0为SiO2层的内建电场，QM为金属极板上的电荷，则半导体表面感应电荷为QS=－QM。在外电场的作用下，在半导体表面形成具有相当厚度（μｍ）的空间电荷区，它对电场起到屏蔽作用。空间电荷区的形成是由于自由载流子的过剩或欠缺以及杂质能级上电子浓度的变化引起的。 在空间电荷区中电场的出现使半导体表面与体内之间产生电位差，半导体表面的电势，称为表面势 。在加上电压VG时，外加电压VG为跨越氧化层的电压V0和表面势 所分摊，即有： 电场 ? 从半导体表面到内部逐渐减弱，直到空间电荷区内边界上基本全部被屏蔽而为零。则每个极板上的感应电荷与电场之间满足如下关系： εsE：半导体表面电场 金属-氧比物和P型半导体的电位分布图 三 载流子的积累、耗尽和反型 空间电荷区静电势 的出现改变了空间电荷区中的能带图。根据VG极性和大小，有可能实现三种不同的表面情况： ① 载流子积累； ② 载流子耗尽； ③ 半导体表面反型。 设半导体体内本征费米能级为Ei0，则空间电荷区内： 在半导体表面处有： 令： 为半导体内的费米势 可以得到： OR 半导体表面层的载流子分布： OR 半导体表面层的载流子分布： 1. 载流子的积累 当紧靠硅表面的多数载流子浓度大于体内热平衡多数载流子浓度时，称为载流子积累。 当金属电极上加负电压时，在半导体表面形成负表面电势 ，表面空间电荷区中能带向上弯曲，由于费米能级EF保持常数，能带向上弯曲使接近表面处有更大的Ei-EF，与体内相比，在表面处有更高的空穴浓度和更低的电子浓度，使空穴在表面积累，增加表面的电导率。 表面电荷为： 载流子积累 2. 载流子耗尽 当金属电极上施加正偏压VG时，表面势 为正，空间电荷区中能带向下弯曲，准费米能级能级Ei靠近费米能级EF, (Ei –EF)值减小，表面空穴浓度低于体内热平衡值，造成多数载流子空穴的耗尽，少数载流子电子有所增加。当由于平衡少子数目极小，因此，少子数目仍然可以忽略。 空间电荷由没有空穴中和的、固定的受主离子构成。 单位面积下的总电荷QS为: 采用耗尽近似，根据泊松方程有： 表面势 QB:半导体空间电荷区中单位面积下的受主离子总电荷 载流子耗尽 Micro Electromechanical System Research Center of Engineering and Technology of Anhui Province