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合成新型硅改性 Ewa Biaáecka-Florjanzyk, Andrzej Orzeszko农业大学，中国科学院化学研究所， ul.Nowoursynowska 159C ， 02-787华沙，波兰电子邮件： orzeszkoa@delta.sggw.waw.pl收稿日期： 2001年5月27日/修订版： 2002年5月31日/接受日期： 2002年6月10日 总结从系列新聚（聚硅氧烷酰亚胺），N，N - dialkenylimides和1,1,3,3 - 四甲基通过polyhydrosilylation合成。得到的聚合物从对苯二酚双[（Nallylphthalimide ）-4 -羧酸]表明液晶属性。其液晶相范围在107- 197 °C。 介绍聚酰亚胺和聚醯亚胺被称为耐高温材料和良好的透明度（1,2）。不幸的是，这些聚合物是非常的，溶于多数有机溶剂。聚酰亚胺目前的处理问题和相当大的努力仍在致力于改善这些性能。方法已被用来克服，同时保持高的热稳定。这些措施包括乙烯或甲基链（3,4）。此外，使用单体或大杂在主链提高溶解度和处理。 另一方面，含硅聚合物是众所周知的可溶性物质把柔性硅基连接的酰亚胺单元显著提高聚酰亚胺加工性能。polyhydrosilylation酰亚胺双端烯烃组硅氢加成反应，即增加一个硅烷烯，在有机硅化学是一个重要的反应。下面给出的一般公式进行酰