第三章薄膜的物理气相沉积-溅射法分析.ppt

主要内容 气体的放电现象与等离子体 物质的溅射效应和溅射产额 各种各样的溅射技术 其他物理气相沉积方法 物理气相沉积 第三章 小结 薄膜材料可使用在一定气氛条件下进行的溅射方法来制备。溅射方法最主要的优点是其可以灵活地被用于制备各种化学成分的薄膜 等离子体中的电子具有高能量和高速度，它是等离子体中能量的主要传递者，并会导致形成等离子体鞘层； 被电压加速的离子对靶物质产生溅射效应 3.3 其它物理气相沉积方法 4、离化团束沉积 离化团束沉积技术是利用一定能量的离化原子团实现薄膜的沉积。这种离化后的原子团可以包括几百甚至上千个原子，它在电场的加速下沉积在衬底上。在与衬底接触的瞬间，原子团发生破裂，原子分散开来沉积在衬底表面。 离化团束沉积与其他方法不同的地方主要是离化原子团的产生部分。为了要获得离子团，首先要用蒸发法将被沉积物质以较高的密度蒸发出来。 使用一个只有很小喷口的坩埚来实现物质的蒸发，使被蒸发物质在坩埚内形成1-1000Pa的高压蒸气并从坩埚喷口处以粘滞流的形式高速喷出。 由于坩埚口很小，而在坩埚外物质的蒸气压只有10-5 Pa左右，因而物质蒸气在喷出的过程中，将在绝热条件下发生膨胀并冷凝成许多稳定的原子团。 3.3 其它物理气相沉积方法 3.3 其它物理气相沉积方法 在装置中还设有电子离化部分，