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毕业设计外文资料翻译 题 目 真空电弧工具的和 应用 学 院 专 业 班 级 学 生 学 号 20100321072 指导教师 二〇一四年月日Surface and Coatings Technology 76-77 (1995) 719-724 真空电弧镀膜工具的潜力和应用 J . 维特 METAPLAS Oberfl?ichenveredelungstechnilc GmbH公司 摘要：空阴极电弧蒸发是广泛用于沉积硬质耐磨涂层的工具和零件。这综述了不同硬质涂层，MeN, (Me1, M%)N, Me(N,C)形成的单层或多层形式以及在合涂层。阴极真空电弧涂层结构；粒径；涂料选择 1.真空电弧镀膜的发展 真空阴极电弧蒸发的发展始于20世纪60年代和70年代继续对硬质涂层[1-4]真空阴极电弧蒸发上世纪80年代和90年代[ 5多年来，几乎所有类型的工具可以通过真空阴极电弧蒸发可成功地涂覆。本文综述了为硬质涂层的真空阴极电弧蒸发沉积的可能性。选定的结果表明潜在的涂层的沉积方法。单元设计 图1显示了在高真空容器组件的布置安装。主要电源供应器蒸发器，衬底支架电源，和进气系统。除了主要组成部分，安装更多的设备；这些包括辐射加热器，增强辉光放电附加电极，在磁系统前面的激发或修改等离子体，以及特殊的系统电子碰撞加热加热衬底[6,8]通过增强辉光放电的过程或使用[ 8 ]的描述可以执行等离子体辅助化学热处理，硬涂层沉积之前渗氮不同类型的涂层系统一个最大涂层区达3米的间歇以及在线镀膜机高真空容器组件的布置安装阴极，高真空容器，磁系统进行了电弧的运动，对等离子体改性的磁系统，可移动的快门在阴极的前面，与气体流量计和压力控制装置的进气系统，可旋转的基板保持器基板，辐射加热器，用于电弧增强辉光放电电极，电源（300个，100个V）的电子碰撞加热连接到B或弧增强辉光放电连接到，弧电源（300 A，40 V），衬底电压电源（1 500 V，30）。蒸发器和阴极材料蒸发器的类型按它们的几何特性和馈电点的圆弧运动控制的性质。阴极的几何安排可以包括圆形（直径值60-100毫米），矩形（400-700毫米的尺寸在长度和宽度100-200公厘）或圆柱状（直径20-180毫米长度300-600毫米）活性表面[ 9 ]。利用阴极装有电磁等离子体指南允许等离子体被国家环保总局评为从宏观粒子流，等离子体粒子撞击在衬底上[ 11 ]。电弧的运动可分为如下：随机弧（无外磁场域）；弱转向弧（弱的外部磁场用来保持运动的边界）；转向弧（具有很强的外部磁场的磁场能显著增加积分弧速度）；电控弧（由电气条件一定的变化对电弧运动的刺激）[ 12 ]。蒸发器投入大多数是随机和弱转向弧型。阴极材料可分为以下方式：均匀的组成元素的阴极上，由基体材料与插入阴极(Ti+Zr合金等）和阴极（A1Ti等）。在蒸发器目前的开发工作正在向脉冲电弧源，但广泛的工业用途的倍增的问题仍然是[13,14]. 为了在基板上的修改涂层生长，脉冲电源的应用越来越广泛。一个特殊的电源产生的脉冲电压为10 kV用于在较低的温度下[ 15 ]TiB2涂层。另一种方法是较高和较低的衬底电压调制[ 16 ]。此外，我们能够运用非对称交变磁场脉冲与在基板上的电位，使交流电子和离子电流基板。 涂层的组成和结构化学成分在现代设计和硬涂层的应用最重要的元素组图2所示最经常应用的涂料TiN和CrNTi（N，C）和（Al，Ti）NZrN, Cr(C,N), (Ti,Zr)N 和Me:CH，硬非晶C'H涂层可采用电弧增强辉光放电产生的等离子体纯碳涂层可以通过蒸发石墨阴极 [ 17 ]。涂层的应用发展最重要的元素循环。线的厚度显示应用中的重要性，虚线显示的研究和开发活动。该涂层不同的体系结构图3显示了一个构建原则的模型涂层结构。两种金属，被认为是氮和碳。涂层应能创建一个两相结构。忽略纹理效果和缺陷可以通过涂层的厚度和化学成分描述涂层该涂料层晶粒尺寸D化学组合物模型，和纵横比：单层厚度除以晶粒尺寸T / D > > 1。经典的多层膜可以通过化学成分和总厚度比在层的晶粒尺寸大得多的逐步变化描述（例如TiN 2 /Ti(N,C) 2μm)。T / D≈ 1。在一定的层序列的厚度几乎相等晶粒尺寸。一个例子是多层HFC