2-2 温合成技术.pptVIP

* §2-2 低温合成和真空技术 低温技术已被称为尖端技术的命脉。另外，低温技术总是和真空技术相伴发展的。 低温下，物质会发生性能的奇妙变化。如低温下物质的超导性和完全抗磁性等就是很好的例证。 低温技术 微电子学 原子能 能源 生物工程 现代显微技术 低温或超低温合成将是未来科学研究的重要领域之一，会为某些挥发性化合物的合成和新型无机功能材料的制备开辟了新的途径。 绕盛产寇衔侣差奎醚途腻酉神饰硼蔫刹兽腑主脉仗卷轿诅赏寻蓑陌镜霍殆2-2 低温合成技术2-2 低温合成技术 表2-4 获取低温的主要方法和所达到的温度 方法名称 一般半导体致冷 三级级联半导体致冷 气体节流 一般气体做外功绝热膨胀 带氦两相膨胀机气体做外功绝热膨胀 气体部分绝热膨胀的三级脉管制冷机 气体部分绝热膨胀的六级脉管制冷机 气体部分绝热膨胀的二级沙尔凡制冷机 可达温度 /K ~ 150 77 ~ 4.2 ~ 10 ~ 4.2 80.0 20.0 12 方法名称 气体部分绝热膨胀的三级G-M制冷机 气体部分绝热膨胀的西蒙氦液化器 液体减压蒸发逐级冷冻 液体减压蒸发(4He) 液体减压蒸发(3He) 氦涡流制冷 3He绝热压缩相变制冷 3He - 4He稀释制冷 绝热去磁 可达温度 /K 6.5 ~ 4.2 ~ 63 4.2 ~ 0.7 3.2 ~ 0.3 1.3 ~ 0.6 0.002 1 ~ 0.001 1 ~ 0.000001 2-2-1 低温的获得与测量 1. 低温的获得 轴腆舵温祈掩猩搭疟腻弗晕秒单捂戎旋尼词几奔裕绩波痹爽磕亡蔚磕茹庆2-2 低温合成技术2-2 低温合成技术 实验室中最常用、最普通的低温源。将冰块和盐尽量弄细并充分混合(通常用冰磨将其磨细)可以达到比较低的温度。如： 盐/冰质量比 可以达到的温度 NaCl/冰 = 1:3 ~ -21℃ NH4Cl/冰 = 1:4 ~ -15.8℃ (NH4)2SO4/冰 = 2:3 ~ -19℃ CaCl2/冰 = 1:1 ~ -40℃ 冰盐体系所能达到的低温，不仅随不同盐类而变化，而且决定于盐冰的比例。 常用的低温源 (1) 冰-盐或冰-酸低共熔体系 泛蓄丈台夜琐掉啡苔状残飞关怎铲煽太绚悍钝奄涵祟萧秉试棠吾衬抢撵摈2-2 低温合成技术2-2 低温合成技术 为了得到更低的温度，实验室中也常使用冰-酸体系，如： 酸/冰质量比 可以达到的温度 浓盐酸/冰 = 1:1 ~ -37.5℃ 浓硫酸/冰 = 1:3 ~ -43℃ 浓硝酸/冰 = 1:2 ~ -56℃ 升华点为-78.3℃，也是常用的一种低温源。用时常加一些有机溶剂，如丙酮、醇、氯仿等，以改善它的导热性能。 (2)干冰浴 饶福碑滴阅舅攻颓校舀华瓤警蒸身搐抢慕如氧寻衫敖沥杀奈争裳昔术犯雪2-2 低温合成技术2-2 低温合成技术 表2-5 干冰与某些有机溶剂组成冷浴的温度 溶剂 四氯化碳(CCl4) 乙腈(CH3CN) 环己烷(C6H12) 氯乙烷(C2H5Cl) 氯仿(CHCl3) 冷浴温度/℃ - 23 - 42 - 46 - 60 - 61 溶剂 无水乙醇(C2H5OH) 乙醚(C2H5OC2H5) 丙酮(C3H6O) 乙酸戊酯(CH3COOC5H11) 一氯甲烷(CH3Cl) 冷浴温度/℃ -72 -77 -78 -78 -82 焕吟攀笑符含潞渐条和慧耻恕佩躇套皆策烈牟咎积搜蚕期芳琢线苟敢鸳止2-2 低温合成技术2-2 低温合成技术 N2气液化的温度是-195.8℃，它是在合成反应与物化性能实验中经常用的一种低温浴。当用于冷浴时，使用温度最低可达-205℃ (减压过冷液氮浴)。 (3)液氮 也是一种常用的冷浴，沸点是-33.4℃，实际使用的温度可达-45℃。需在具有良好通风设备的房间或装置下使用。 (4)液氨 上述几种低温冷浴较难维持恒定低温，故不能作恒温低温冷浴。 哼霄高炔咖达将毡证吠稳躯纹来件唤盲挞彤霍座喻蝴江互乞酉酿差俄骨悠2-2 低温合成技术2-2 低温合成技术 可以恒定温度。主要是利用纯物质的固-液或固-气平衡相变构成温度恒定；或利用纯物质的沸点作为所恒定的温度。如CS2可达-111.6℃，这个温度是标准气压下CS2的固-液平衡点。 (5)相变致冷浴 想郊盔另位苗泥剃不展狼俐朋睁资韶葱堤嗓土氰蹿扮狡茨嘻蜜茁坷窝仔鸭2-2 低温合成技术2-2 低温合成技术 表2-6 常用的固定相变冷浴物质及其达到的温度 低温浴