光辐射的调制 电光调制 g63横向电光相位延迟 横向运用最大的优点是可以利用增大纵横比来降低半波电压。 通过晶体后两光产生相位差为: 电光调制 g63横向电光效应的补偿方式 第二块晶体相对于第一块翻转90度放置,电场反向 电光调制 g63横向电光效应的补偿方式 第二块晶体相对于第一块翻转180度放置 电光调制 KDP类晶体的电光振幅调制 KDP晶体g63纵向运用 入射光强为: 调制光强为: 电光调制 KDP类晶体的电光振幅调制 KDP晶体g63纵向运用 调制光强为: 调制器的透过率为: 为减小失真,使透过率线性变化: 电光调制 KDP类晶体的电光振幅调制 振幅调制或强度调制:KDP晶体g63纵向运用 输出光强仍为正弦变化, 不失真。 可见失真程度很小 电光调制 KDP类晶体的电光相位调制 输出光强为: 外电场不改变出射光的偏振状态,仅改变其相位 电光调制 光电子学实验----铌酸锂(LiNbO3)晶体横向调制 LN晶体是单轴晶体,其线性电光系数矩阵为: 没有加电场之前,LN的折射率椭球为: 加上电场之后,其折射率椭球变为: LN晶体折射率椭球 x3 x2 x1 n1 n2 n3 电光调制 光电子学实验----铌酸锂(LiNbO3)晶体横向调制 实验光路为: x1 x3 d Y P A E L U 横向电光调制示意图 横向电光调制: 加上横向电场之后,其折射率椭球变
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