TCAD工具简介预览.ppt

ISE TCAD Training —— Overview ISE-TCAD Overview Menu A. What is TCAD? 10 minutes B. ISE TCAD Tool Overview 20 minutes A. What is TCAD? A.1 What is TCAD? A.2 Process simulation A.3 Device simulation A.4 TCAD in the semiconductor industry A.1 What is TCAD? 利用计算机仿真来开发和优化半导体工艺技术及器件 TCAD仿真工具求解基本的物理偏微分方程，如离散化的扩散及传输方程等来描述半导体器件中的the silicon wafer or the layer system 。 深层次的物理方法使得TCAD仿真有一个可预测的精度。因此，当开发或描述一种新的半导体器件或技术时，可以用TCAD仿真来替代费钱费时的测试晶片。 TCAD包括两个主要分支： process simulation and device simulation. A.2 Process simulation 基于物理方程仿真工艺步骤：如刻蚀、淀积、离子注入、热退火及氧化等。 硅晶片仿真部分被离散化（meshed）并且描述为一个有限元结构。 如热退火