PECVD设备工作原理综述.pptVIP

* Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n Hanergy Confidential 浙江长兴汉能光伏有限公司 */n CVD-1100设备工作原理 一、设备构成 二、工作原理 三、日常维护 目 录 CVD-1100型等离子化学气相沉淀设备主要有以下几个部分组成：1.真空系统（泵组部分），2.淀积部分，3.特气系统，4.射频系统。原理图如下所示： 一、设备构成 1、真空系统 如上图所示,真空系统主要由一系列泵和波纹管及阀门等组成，主要作用是：维持淀积腔室真空状态，保持腔室压力稳定，及时抽走反应生成的颗粒（硅粉等）。 2、淀积部分 此部分主要包括沉积炉和工件架，主要作用是淀积所需膜质 沉积温度