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磁控溅射镀膜技术文献综述
摘 要
因现代科技发展的需求，真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能，提高工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使用寿命，具有很高的经济价值。磁控溅射技术在薄膜制备领域的应用十分广泛，可以制备工业上所需要的各种薄膜，如超硬薄膜、耐腐蚀耐摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜，以及各种具有特殊电学性能的薄膜等。
关键词：磁控溅射 薄膜 综述
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目 录
1.磁控溅射技术的发展 …………………………………………………………………1
2.磁控溅射基本原理………………………………………………………………………1
3.磁控溅射技术及特点……………………………………………………………………1
4．基本装置…………………………………………………………………………………2
4.1 电源………………………………………………………………………………………2
4.2 靶的冷却…………………………………………………………………………………2
4.3 磁短路现象………………………………………………………………………………3
4.4 基底偏压…………………………………………………………………………………3
5.磁控溅射新技术…………………………………………………………………………3
5.1 多靶磁控溅射技术………………………………………………………………………3
5.2 磁场扫描法 ……………………………………………………………………………4
5.3 非平衡磁控溅射(UBMS)…………………………………………………………………4
5.4 脉冲磁控溅射技术(PMS) ……………………………………………………………5
6.磁控溅射新发展…………………………………………………………………………6
7.ZnO:Al薄膜概述…………………………………………………………………………7
7.1 Al掺杂ZnO薄膜的性质…………………………………………………………………7
7.2 Al掺杂ZnO薄膜的应用…………………………………………………………………8
7.2.1 液晶显示器……………………………………………………………………………8
7.2.2 热镜……………………………………………………………………………………8
7.2.3 太阳能电池……………………………………………………………………………8
7.3 Al掺杂ZnO薄膜的研究现状……………………………………………………………9
7.4 ZAO薄膜研究工作的发展趋势和方向………………………………………………… 10
7.5 溅射参数对Al掺杂ZnO薄膜的性能的影响……………………………………………10
7.5.1 氩气压强……………………………………………………………………………11
7.5.2 溅射功率对薄膜结构的影响………………………………………………………11
7.5.3 衬底温度……………………………………………………………………………14
7.5.3.1衬底基片温度对薄膜的导电性的影响………………………………………14
7.5.4退火温度对Al-ZnO薄膜结构的影响……………………………………………16
7.5.5 Al掺杂量…………………………………………………………………………17
8. ZAO-X薄膜研究情况………………………………………………………………18
8.1 Al-Zr共掺杂Zn0薄膜………………………………………………………………18
8.2 Al-Ti共掺杂Zn0薄膜及Ti掺杂Zn0薄膜…………………………………………19
8.3 Al-Cr共掺杂Zn0薄膜………………………………………………………………19
8.4 Al-F共掺杂Zn0薄膜…………………………………………………………………20
结语……………………………………………………………………………………………21
参考文献……………………………………………………………………………………22
1.磁控溅射技术的发展
在1852年Grove就在气体辉光放电管中发现离子对阴极材料的溅射现象，其离子束来源气体为辉光放电产生的等离子体，直到1963年才开始实现溅射镀膜的产业化，随后便出现了三级溅射和磁控溅射。
2.磁控溅射基本原理
磁控溅射技术是在普通直流(射频)溅射技术的基础上发展起来的。早期的直流(射频)溅射技术是利用辉光放电产生的离子轰击靶材来实现薄膜沉积的。但这种溅射技术的成膜速率较低，工作气压高(2
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