X射线光电子能谱学课件.ppt

X射线光电子能谱学 射线诱发的光电子能谱技术通常分为两类:紫外光电子能谱(UPS )和X射线光电子能谱(X-Ray Photoelectron Spectroscopy，简称XPS )。 XPS最早是在原子物理实验室用来系统测量各种元素原子的电子束缚能，70年代初超高真空技术开始与XPS相结合。如今XPS已成为材料表面分析的常规工具。由于XPS可用来分析元素的化学状态，所以又称为化学分析用的电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis-ESCA)，这个名词强调在X射线电子能谱中既有光电子峰也包含了俄歇峰。 基本原理 1.光电子的发射及其能量 当入射光子的能量hv (h一普朗克常数，v-光波频率)明显超过原子的芯电子束缚能Eb时，可引起光电子发射。光电子的动能为 2.逃逸深度与表面灵敏度 θ是出射方向与表面法线的夹角。可见，垂直表面射出(θ=0)的电子来自最大的逃逸深度， 而近似平行于表面射出的电子则纯粹来自最外表面几个原子层。因此，XPS和AES一样是对表面灵敏的分析技术，采取改变探测角的方法更可以提高表面灵敏度。 基本装置 主要部件有X射线源、样品台、电子能量分析器、电子探测及倍增器，以及将电流转换成可读能谱的数据处理和显示的电子学系统。除电子学系统之外，所有部件都放在超高真空中。 X