《vdmos的几种类型的产品.docVIP

POWER MOSFETS 平面VDMOS的剖面图， 一般是60V以上的器件，采用1.5um以上的工艺，所以国内以前做IC的厂家都能做。 沟槽VDMOS的剖面图， 一般是60V以下的器件， 采用0.5um以下的工艺，所以国内高档的IC厂家才能做。 所以加工线的条件非常重要，如加工的线条、刻槽技术、工艺线的环境。 加工线的条件不太重要，所以现在很多的老的5寸、6寸线在做。但对材料要求很高,是高阻厚外延材料。 加工线的条件及材料要求都很高。只有国外几家公司在做，如IR、INFINEON。 随着加工技术及设计技术的提高器件的特性不断地改进 （以导通电阻为列）。 平面IGBT的剖面图， 一般是400V以上的器件，采用2um以上的工艺，所以国内以前做IC的厂家都能做，但设计及材料要求都很高。 VDMOS和双极管特性比较 特性 VDMOS 双极管 电流能力 小 大 功率处理能力 小 大 击穿电压 1000V以下 可到3000V 开关速度 快 慢 二次击穿 无 有 温度特性 负温特性，好，可多个器件串并联 正温特性，不好，多个器件不好串并联 驱动方式 电压驱动，驱动电路简单 电流驱动，驱动电路复杂 和IC的兼容性 好 差 工艺要求 高 低 制造成本 高 低 VDMOS的击穿电压：BVDSS、VBR VDMOS的击穿电压决定于： 1、外延材料；浓度及厚度 2、体单胞间距 3、终端设计 4、表面态等工艺控制 VDMOS的导通电阻：RDS（ON） 低压（200V以下VDMOS的导通电阻（由大到小排列） 单胞密度 （沟道电阻） 表面浓度（积累层电阻） 外延材料；浓度及厚度（耐压区电阻） 设计（颈部电阻） 封装（有时会到主要地位） 表面金属化（表面接触电阻） 高压200V以上VDMOS的导通电阻（由大到小排列） 外延材料；浓度及厚度（耐压区电阻） 单胞密度 （沟道电阻） 设计（颈部电阻） 表面浓度（积累层电阻） 表面金属化（表面接触电阻） 封装 VDMOS的跨导：Gfs 栅、源电压对漏电流的控制能力：在一定的漏电压下，漏电流除以栅、源电压（漏电流为最大允许漏流的一半） 处决于沟道密度及沟道宽度（从80年到今60倍） VDMOS的域值电压：Vth 为使沟道反型所需最小栅、源电压值。 一般高压器件为2—4V 低压器件为1—3V 寄生二极管的正向压降： 一般在1V到1。6V之间。高压的器件要大。（100V为界）。 最大耗散功率：结温到最大允许结温时的功率（一般为150C） VDMOS的等效电路： VDMOS的开关特性： VDMOS的寄生三极管的限制： 自从IR(INTERNATIONAL RECTIFIED国际整流器公司)发明了第一个MOSFET（METAL OXIDE SEMICONDUCTOR FIELD EFFECT TRANSISTOR金属氧化物半导体场效应管）以来，MOSFET的性能的不断提高，其在各种应用领域得以大量使用；鉴于MOSFET的各种优良特性和良好的前景，各大电子元器件厂家纷纷投入大的人力研发自己的专利技术。IR的Direct FET?技术，Infineon Cool MOS的S-FET?技术,AATI的TrenchDMOS?…；伴随之而来的专利的封装技术。研发的重点依然在Rds(ON)的降低，栅极总电荷Qg的减少等。 ?????? 而双极性晶体管“似乎”被人们越来越“看不起”，被很多人看作是“旧技术”；甚至有人断言：不久的将来，MOSFET将完全取代BIPOLAR TRANSISTOR，尤其当需要高速度，高效率的时候。这种观点是站不住脚的；首先，我们可以理解新技术的产生对业界产生的推动以及带来新的设计线路和设计方法；但是没有一种元器件、一种设计方法可以满足所有的应用。其次，需要看到双极性晶体管也在向更高性能不断发展，在某些领域同样有着不可替代的作用。比如ZETEX，不断的推出新的高性能的BIPOLAR TRANSISTOR，每一种元器件和技术都有它的优点和缺点,都有它的应用领域，本文我们将从几个大家关心的方面进行讨论。 　? ?