分析仪表检修规程书..doc

分析仪表检修规程 目的：本节内容规范了分析仪表使用维护与保养规程。 适用范围：本节内容适用于激光分析仪、光谱仪、酸碱度分析仪、电导仪、可燃性有毒性气体检测器等分析仪表。其他同类仪表可作参考。 半导体激光分析仪检修规程 目的：规范半导体激光分析仪的使用、维护与保养规程。 适用范围：本节适用于FPI公司的LGA-4500型激光分析仪的维护检修规程。我厂此类分析仪表在气柜旁、氯压机厂房、乙炔清净楼等场所使用。 第一、工作原理： LGA-4500型半导体激光吸收光谱（DLAS）技术利用激光能量被气体分子“选频”吸收形成吸收光谱的原理来测量气体浓度。由半导体激光器发射出特定波长的激光束（仅能被被测气体吸收），穿过被测气体时，激光强度的衰减与被测气体的浓度成一定的函数关系，因此，通过测量激光强度衰减信息就可以分析获得被测气体的浓度。 500激光气体分析仪概述 第二、LGA-4500激光气体分析仪特点 1，基于半导体吸收光谱技术的旁路分析产品，测量精度高、漂移小 系统是以高稳定性、低噪声的半导体激光器为光源，采用半导体激光吸收光谱 (DLAS) 技术的旁路气体分析系统。由于有效克服了背景气气体组份、粉尘颗粒、光源变化等因素对测量的影响，系统不仅拥有抗干扰能力强，检测灵敏度高的特点，还具有测量漂移小、可靠性高等优势。 2，安装于过程管道现场的旁路处理系统，可靠性高、响应速度快 基于半导体激光吸收光谱（DLAS）独特的技术优势，系统可采用热法（系统可加热至140℃）处理和分析，旁路处理装置无运动部件，可靠性高；系统环境适应能力强，可直接安装在过程管道处取样、处理和分析，响应速度快。 3，全系统防爆，支持气体温度、压力补偿 系统（包括旁路处理装置）全部采用防爆设计，可满足各类危险区域的应用要求，安全可靠。同时，系统还可选温度、压力传感模块，可对气体温度、压力进行实时监测和补偿，满足高精度测量要求。 第五、技术指标。 第三、工作条件 工作环境温度：-30℃~60℃存储温度：-40℃~80℃ 正压吹扫气体：0.3 Mpa净化仪表空气或工业氮气 流量大于1升/分钟时，系统响应时间：T90≤20秒 测量气体参数 气体 测量下限 测量范围 O2 100 ppm (0-1)%Vol., (0-100)%Vol. CO2 10 ppm (0-1000)ppm,(0-100)%Vol. H2S 20 ppm (0-2000) ppm, (0-100)%Vol. HCL 0.1 ppm (0-50) ppm,(0-100)%Vol. NH3 0.1 ppm (0-10) ppm, (0-100)%Vol. C2H2 0.1 ppm (0-10) ppm, (0-100)%Vol. CO 10 ppm (0-1000)ppm, (0-100)%Vol. H2O 0.3 ppm (0-50)ppm, (0-100)%Vol. HF 0.02 ppm (0-5)ppm, (0-10000) ppm HCN 0.3 ppm (0-30)ppm, (0-1)%Vol. CH4 0.4 ppm (0-40)ppm, (0-100)%Vol. C2H4 0.6 ppm (0-60)ppm, (0-100)%Vol. CH3I 0.6 ppm (0-60)ppm, (0-100)%Vol. 第四、检修维护： LGA-4500系列气体分析系统内置了高性能微处理器，自动化程度非常高，操作简单。由于避免了易磨损的运动部件和其他需经常更换的部件，日常预防性维护主要局限于周期性地目测检查、气路检查和清洁光学视窗，其中，空气减压控制在8-9格正压监测模块，透过率不得小于10%。（小于10%咨询厂家处理）。系统通常也无须在这些预防性维护后进行重新调整，切勿乱操作。 第五、使用的工具和劳保用品： 使用的工具：螺丝刀、活动扳手、生胶带等。 劳保要求：工作服着装，佩戴安全帽，耐酸碱手套、防毒面具等。 紫外差分分析光谱仪检修规程 目的：规范紫外差分分析光谱仪的使用、维护与保养规程。 使用范围：本节适用于FPI公司的OMA-3010光谱仪的维护检修规程。我厂在HCL合成等场所使用，测HCL中游离氯含量。 一、工作原理： OMA-3010 Cl2HCl分析仪是聚光科技针对氯碱行业特别推出的解决方案。该系统采用OMA-3000系列在线紫外光纤光谱分析仪和高耐腐预处理系统，可同时分析工业过程气中的微量Cl2和高浓度HCl，且支持自动Cl2双量程切换，能在高腐蚀性环境中长期稳定的工作。 二、OMA-3010 Cl2HCl分析仪的特点： 1，高精度微量Cl2 测量，动态量程切换同时测量HCl和Cl2，投资价值高3，预处理采用高耐腐器件和防腐设计，可靠性