苏大维格技术创新进入无人区--光场3D显示讲述.docxVIP

引言——苏大维格技术创新进入“无人区”中国科技创新一直以来都是“有人区”复制太多，成本竞争激烈，而“无人区”真正的开拓创新太少。苏大维格上市以来依托完全自主搭建的微纳制造平台，持续不断的通过技术创新进行“无人区”，光学防伪技术用于身份证，打破我国对国外技术依赖，在全球范围内率先实现Metalmesh导电膜量产，创造性的开发了纳米指向性背光膜。公司的微纳制造技术是指精度在微米（1um=10-3毫米）、纳米（1nm=10-3um）级的超细微加工极端制造技术。微纳制造是超材料研发生产的核心技术，超材料具备天然材料所不具备的特殊性质，而且这些性质主要来自人工设计的微纳结构。图：微纳结构应用领域苏大维格的微纳制造创新平台，占据了全球下一代材料加工、制造创新的制高点，该技术应用范畴众多，平台将产生大量的创新应用、创新产品。公司构建的多元技术壁垒国内其他企业难以跨越，其核心设备自主研发，不受制于国外的装备及零部件，并且技术与国际先进企业处于同一水平。经过近几年的开拓创新，公司目已经在包装材料、公共防伪、导光膜、导电膜等四个领域形成了完整的产业化布局，并且在特种功能膜材料（热烫印膜）、LED纳米图形化衬底、OLED掩膜版、裸眼3D等领域拥储备了完善的技术。公司现凭借NanoCrystal200纳米光刻设备，已经开始布局“超材料”领域的研发，其中基于NanoCrystal200生产的“纳米指向性背光