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④ 反应溅射应用： ZnO薄膜 氧气 （３）反应磁控溅射： 有机结合反应溅射和磁控溅射特征 Zn靶 本实验氧化锌薄膜制备方法： 反应磁控溅射 4.ZnO薄膜： （１）结构： 闪锌矿结构 纤锌矿结构 ZnO晶胞含有四个原子，其中两个Zn占据(0, 0, 0)和(1/3, 2/3, 1/2)位置；而氧占据(0, 0, 3/8)和(1/3, 2/3, 7/8)位置；晶格常数a=0.324 nm，c=0.519 nm。 具有较大的耦合系数而作为一种压电材料； 响应时间快、感应能力强而应用于光学传感器； 经Al或Ga元素掺杂后，同时具有良好的可见光透过性和类金属的电导率而用做透明导电薄膜； 用Li或Mg掺杂的ZnO可作为铁电材料； ZnO与Mn元素合金化后是一种具有磁性的半导体材料； 大面积高质量的单晶ZnO可以作为蓝色光和紫外光的激光发射器。 （２）性能与应用： 五、实验方法和步骤 （1）超声波清洗器清洗玻璃基片。 （2）安装Zn靶。 （3）玻璃基片放入沉积室里面的样品台上。 （4）检查水源、气源和电源，打开冷却循环水。 （5）抽真空与测量真空度。 机械泵＋分子泵抽真空； 热偶真空计＋电离真空计。 （6）关闭分子泵，机械泵仍然工作，开始通入Ar和O2气体。 （7）沉积ZnO薄膜。 设定工艺参数：功率（400-500W）、靶电压（300-400V）、靶 基距70mm，基片温度室温