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《等离子体增强化学气相沉积方法制备类金刚石薄膜实验
实验二 等离子体增强化学气相沉积方法制备类金刚石薄膜实验 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 一、实验目的 二、实验内容 三、实验仪器设备和材料 四、实验原理 五、实验方法和步骤 六、实验报告要求 七、实验注意事项 八、思考题 提纲： Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 一、实验目的 （1）通本实验使学生了解气体辉光放电的原理和 过程。 （2）使学生了解并熟悉直流辉光放电等离子体化 学气相沉积系统的结构和使用方法。 （3）掌握等离子体化学气相沉积薄膜的工艺原理 及在基片上沉积类金刚石薄膜的工艺过程。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 二、实验内容 （1）高真空的获得与测量。 （2）等离子体的产生。 （3）设定实验工艺参数、利用直流辉光放电等离子体增 强化学气相沉积类金刚石薄膜。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 三、实验仪器设备和材料 （１）试样： 玻璃基片、硅基片、氩气、甲烷、乙炔、氮气、丙酮、酒精。 （２）实验设备： 超声清洗器； 直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积系统。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 直流辉光放电PECVD沉积系统示意图 直流辉光放电等离子体化学气相沉积类金刚石薄膜是利用高压直流负偏压（-1~-5kV），使低压碳氢气体发生辉光放电从而产生等离子体，等离子体在电场作用下沉积到基片上并形成类金刚石薄膜。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 主要组件：真空室组件、直流电源、基片水冷加热台、窗口及法兰接口部件、工作气路、抽气机组（机械泵和分子泵）、阀门及管道、真空测量及电控系统。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 四、实验原理 （１）化学气相沉积制备薄膜介绍 （２）直流辉光放电等离子体化学气相沉积 （３）类金刚石薄膜简介 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. ４.1 化学气相沉积制备薄膜介绍： 化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）：利用气态的先驱反应物，通过原子、分子间化学反应的途径生成固态薄膜的技术。 气体输入 强制对流 自然对流 气相扩散 表面吸附 表面反应 表面脱附 薄膜形成 气体传输与气相反应 气相沉积 化学气相沉积过程中的各个动力学环节: Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. （１）气体放电： ４.２直流辉光放电等离子体化学气相沉积： 直流气体放电体系模型 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. （２）
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