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第一章.电镀概论 1-1.电镀的定义 电镀为电解镀金属法的简称。电镀是将镀件(制品),浸于含有欲镀上金属离子的药水中并接通阴极,药水的另一端放置适当阳极(可溶性或不可溶性),通以直流电后,镀件的表面即析出一层金属薄膜的方法。简单的理解,是物理和化学的变化或结合。 1-3 电镀金属的种类 电镀金属的种类约有30多种,其中应用较广的有镀锌,鎘,铜,镍,铬,银,锡,金,铁,鈷,铅,锑,铂,钛,铹等十多余种。除单金属镀层外,还有很多合金镀层,例如镀铜锡,铜锌,铜镍,镍铁,铅锡,锌锡,锌铁,锌镍,铜鎘,锌鎘,锡铁,锡鈷,钨铁等。 1-3 .电镀工艺的用途: 不论是单金属镀层,还是合金镀层,电镀的作用主要有以下几个方面。 a.防腐蚀b.防护装饰c.抗磨损d.电性能:根据零件工作要求,提供导电或绝缘性能的镀层 1-4.电镀的常见工艺过程 簡單的說,ABS電鍍就是將ABS中的B(丁二烯)以化學方式腐蝕掉,使產品表面呈現一些疏鬆的細孔,再附著一層導體(比如銅)使其能夠導電,隨後再參照金屬電鍍的方式進行電鍍。所以,ABS電鍍是化學鍍與電鍍的混合。 1-5 电镀的基本五要素: 1.阴极:被镀物,指各种接插件端子。 2.阳极:若是可溶性阳极,则为欲镀金属。若是不可溶性阳极,大部分为贵金属(白金,氧化铱) 3.电镀药水:含有欲镀金属离子的电镀药水。 4.电镀槽:可承受,储存电镀药水的槽体,一般考虑强度,耐蚀,耐温等因素。 5.整流器:提供直流电源的设备。 1-6 电镀的目的 电镀除了要求美观外,依各种电镀需求而有不同的目的。 1.镀铜:打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。 2.镀镍:打底用,增进抗蚀能力。 3.镀金:改善导电接触阻抗,增进信号传输。 4.镀钯镍:改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性比金佳。 5.镀锡铅:增进焊接能力,快被其他替物取代。 1-7 电镀流程 1-8 电镀条件 1.电流密度:单位电镀面积下所承受的电流,通常电流密度越高膜厚越厚,但是过高时镀层会烧焦粗燥。 2.电镀位置:镀件在药水中位置,与阳极相对位置,会影响膜厚分布。 3.搅拌状况:搅拌效果越好,电镀效率越高,有空气,水流,阴极摆动等搅拌方式。 4.电流波形:通常滤波度越好,镀层组织越均一。 5.镀液温度:镀金约50~60,镀镍约50~60,镀锡铅约18~22,镀钯镍约45~55。 6镀液PH值:镀金约4.0~4.8?,镀镍约3.8~4.4,镀钯镍约8.0~8.5, 7.镀液比重:基本上比重低,药水导电差,电镀效率差。 1-9 电镀的常用设备 1. 药水槽体: 一般使用的材料有PP,PVC,不锈钢。若不需要加热可使用PVC槽,温度在70℃以下可使用PP槽,若温度超过70℃时则需使用不锈钢槽,但是电镀槽是不可用不锈钢槽(金属槽0。在连续电镀中,有分母槽与子槽。母槽为装电镀药水用,而子槽为电镀用。目前子母槽分离,同体,共用三种方式。母槽结构的设计较单纯,只需考虑水流,搅拌,稳流,定位,阴阳极距离等因素。 2. 槽体基架: 一般有塑胶药槽的衍生架,角铁,不锈钢方管,黑铁上漆等方式。为考虑强度及耐蚀问题,建议使用不锈钢方管。 3. 进水系统: 一般有使用纯水与自来水。在每个药槽,水槽上都设有进水口,以补充水位及清槽之用。为避免水管破漏或人为疏忽,电镀槽是不设进水装置的。 4. 排水系统: 一般排水需先行分类再设排水系统。以端子连续电镀的废水分类为,酸液,碱液,镍液,金液,锡铅液等。而各槽排水管建议用一英寸以上的管子。排水效果较良。一般水洗槽设单排水阀,而各个电镀药槽则设双排水阀,以避免人为疏忽将药水排掉。各水槽设溢流管,避免满水流到它槽。 5. 抽风系统: 电镀设备需有密封(即有上盖),方有设抽风效果。在主要产生废气的药槽设立抽风口,并可以调节抽风量。因气体中含水量极高,故需设有排水装置。抽出的气体也必须作废气处理。 6. 电热系统: 因药槽需加热,故加热系统很重要。一般加热系统组成有加热器,感温器,液位感应器,温度设定器,TIMER,警报器等。由于顾及安全问题,必须设有无水自动断电系统。浸泡在药水中的材质以钛金属最为长用,但在强碱药水槽中,则建议使用不锈钢或是铁氟龙等材质。 第二章 电镀实物 厂内电镀每槽简单作以下介绍. 工艺流程如下: 前处理:酸脱—热脱—粗化—中和—预浸—敏化—加速—化学镍 后处理:焦磷酸铜—活化—硫酸铜—活化—全光镍—活化—六价铬 一.热脱槽 1.主要成分:ABS-32. 2.作用:去除产品表面油脂及脏污. 二.粗化槽 1.主要成分:铬酸,硫酸 2. 作用:使产品表面形成细孔,易于吸附,减少麻点,附着力不够,百格不过等现象. 三.敏化槽 1.主要成分:钯液,
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