第二章半导体中的杂质和缺陷教程方案.ppt

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第二章 半导体中的杂质和缺陷 1?? 来源 2 杂质晶格位置 3 杂质对电学性质的影响 4 杂质的能级特性 Ⅲ-Ⅴ族化合物中的杂质 半导体中的缺陷 1、来源: (1)沾污 可动离子—钠离子、钾离子、氢离子 化学试剂、玻璃器皿、高温器材、人体玷污 (2)人为控制掺杂 2 杂质晶格位置 (1)间隙式(interstitial) – 杂质原子位于晶格原子之间的间隙位置 金刚石型晶胞内原子占有体积34%,空隙66% 四面体间隙位置 六角形间隙位置 (2)替位式(substitutional)--杂质原子取代晶格原子而位于格点位置 Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si Si 替位式杂质要求 原子大小相近 价电子壳层结构接近 Si:r=0.117nm B:r=0.089nm P:r=0.11nm 间隙式杂质Li、H —原子半径很小 Li:r=0.068nm B -1 (1)受主杂质:杂质电离时能够在半导体中接受电子而产生导电空穴,并形成负电中心。 3 杂质对电学性质的影响 例如:Si 室温下 本征载流子浓度为1010/cm3 掺入B (NA=1016/cm3) Si的原子浓度为1022~1023/cm3 B原子的浓度/Si原子的浓度=10-6 受主向价带提供的载流子 1016~1017/cm3>>1010/cm3 百万分之一 百万倍 △EA EA Eg Ec Ev (2)施主杂质:杂质电离时能够释放电子而产生导电电子并形成正电中心。 P +1 △ED + + ED Eg Ec Ev 概念汇总 施主、施主电离、n型半导体 ?施主--能够向半导体提供导带电子的杂质 ?施主电离--施主杂质上多余的一个价电子摆脱束缚,成为导带电子 ? n型半导体—主要依靠导带电子导电的半导体 杂质向导带和价带提供电子和空穴的过程(电子从施主能级向导带的跃迁或空穴从受主能级向价带的跃迁)称为杂质电离或杂质激发。所需要的能量称为杂质的电离能。 电子从价带直接向导带激发,成为导带的自由电子,这种激发称为本征激发,只有本征激发的半导体称为本征半导体。 受主,受主电离和p型半导体 ?受主--能接受电子而产生导电空穴的杂质. ?受主电离 –受主杂质上的空穴摆脱束缚,成为价带空穴 (即价带电子激发到受主能级上) ? p型半导体 --主要依靠价带空穴导电的半导体 掺施主的半导体的导带电子数主要由施主决定,半导体导电的载流子主要是电子(电子数空穴数),对应的半导体称为n型半导体。称电子为多数载流子,简称多子,空穴为少数载流子,简称少子。 掺受主的半导体的价带空穴数由受主决定,半导体导电的载流子主要是空穴(空穴数电子数),对应的半导体称为p型半导体。空穴为多子,电子为少子。 n型和p型半导体都称为极性半导体 例:n型半导体(低温弱电离区) 1/T lnn0 -ΔED/(2k0) lnn0≈ 常数 -△ED/(2k0T) 可以通过实验, 计算出杂质电离能 (3)利用电学性质计算杂质电离能 问题:如果在半导体中掺入施主杂质后,又继续掺入等量受主杂质,则导电性会产生什么样的变化? (4)杂质补偿:半导体中同时存在着施主和受主杂质,两种杂质之间相互抵消的作用。 Eg ED Ec Ev EA 杂质补偿应用:根据需要用扩散或离子注入方法来改变半导体某一区域的导电类型,以制成各种器件。 p型半导体 n型半导体 (5)等电子杂质: 杂质原子与半导体原子具有同数量价电子。 电负性相差较大 俘获电子 负电中心 俘获空穴 正电中心 等电子杂质 带电中心 俘获某种载流子 束缚激子 ★间接带隙半导体发光器件 俘获另一种相反 符号的载流子 4 杂质的能级特性 (1)浅能级:如果受主能级很接近价带顶,施主能级很接近导带底,这些杂质能级称为浅能级,将产生浅能级的杂质称为浅能级杂质。 将Ⅲ、Ⅴ族杂质掺入Ⅳ族半导体如Si、Ge中,则为浅能级杂质。 Eg △EA EA Ev Eg △ED + + ED Ec Ev Ec 浅能级杂质电离能的计算 带电中心+一个束缚于其上的载流子 施主杂质电离能: mn* 电导有效质量 “类氢原子” P +1 氢原子基态电子电离能: 半导体晶体中 介电常数为 电子质量 和实际相比,类氢模型只是粗糙的近似 Si 、 Ge中施主杂质电离能 0.025eV 、 0.006eV 晶体 Si Ge 杂质 P As Sb 0.044 0.0126 0.049 0.012

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