下摆机精磨抛光工艺..doc

文件名称 下摆机研磨工艺 制定时间 版次 第一版 作成 审核 批准 具 体 内 容 一、目的： 光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。 1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。 2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径R值，并满足零件光圈数N及光圈局部 误差△N的要求。 二、抛光机理： 认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定范围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速率越高(如氧化铈Ce02抛光粉比红粉Fe203硬度高，前者比后者抛光速率高2～3倍)。 另外在一定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1～1.2 um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 三、抛光基本常识： 1、光圈的概述： 被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时，它们之间形成对称的契形空气间隙，从而产生等厚干涉条纹，在白光照射下，可见到彩色光环，这种彩色环称为光圈，物理学中称牛顿环。 光圈的识别： 高光圈与低光圈： 高光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向外扩散的，即高光圈； 低光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向内收缩的，即低光圈； 光圈数与局部误差的计算方法： 光圈数的计算方法：N=N检-N补 光圈数N，实际光圈数为N检，基准补负为Ｎ补。 例：基准补负2圈，实际测光圈数为－４圈，则：Ｎ＝Ｎ检－Ｎ补=4-（-2）=-2圈 局部误差计算方法： A、象散光圈：△N1=b/a-1 B、光圈局部不规划：△N2=a/b=0.2/1=0.2 规则：0.5圈OK 四、抛光前所需的准备工作： 1、配抛光液： 用对应的抛光粉配一定浓度的抛光液，一般抛光液的浓度设定为1.015—1.025（g /cm3 ），具体根据实际的玻璃情况设定，一般选择原则是软玻璃浓度小些，硬玻璃浓度适当取大一些。大约比例为： 磨耗度： 70—120(硬) 120—170（中等） 180（软）以上 比重 ：1.030—1.035 1.020—1.030 1.015—1.025 以上仅供参考。 总之，对于不同玻璃的镜片，应根据其化学稳定性（耐水性、耐酸性）和磨耗度，选择不同种类、不同粒度的抛光粉，并设定其浓度及PH值。 2、聚氨酯片的选用： 化学名称为聚氨基甲酸酯，简称聚氨酯。我们所用的聚氨酯片，是一种具有良好微孔结构，其强度、耐磨性、耐酸性、耐热性均较好，其硬度和塑性适中，是一种抛光效率高，使用寿命长的研磨抛光材料。其抛光镜片表面粗糙度为0.01—0.04μm.。 根据玻璃的磨耗度，从硬到软可参考按以下顺序选用聚氨酯片： LP—87 淡黄色或肤色 LP—57 白色 LP—26 粉红色（一般一种多用，单片，多片均可） LP—66 红褐色或暗红色（多片或大镜盘多用） GR—35 灰色（软硝材多用） 其中LP—87和LP—57一般在单片高速加工经常采用。（主轴转数在2500rpm以上）。LP—26Z中高速一般硝材适宜，LP—66、GR—35软材低速（1500rpm以下）或多片大镜盘用。聚氨酯片按其厚薄尺寸又分为：0.5mm,0.8mm,1mm,1.25mm和1.5mm多种。一般单片加工采用薄的聚氨酯片（0.5mm或0. 8mm）,而大镜片或多片加工镜盘口径较大时宜采用厚的聚氨酯片。 3、准备抛光所需的所有模具： 聚抛模3~5个，对改模正负各一个，大小面样板各一个，夹具大小面各2~4个，台灯，纱布若干块，黑皮（0.5或者0.8），剪刀（以上2样可以在用到时临时解决） 下摆机加工：弯勾，扳手，对应压力头，轴。 上摆机加工：顶针 4、模具制作： 由于新贴好的聚抛模表面未磨过，多个原因造成聚氨酯片表面达不到要求的面型： 4.1车床车出来的聚抛基模表面不是一个理想的球面，会有凹凸不平，甚至有严重的毛刺。 4.2贴上去的聚氨酯片自身凹凸不平，也不是理想的球面 4.3即使没有以上两者原因，在贴聚氨酯片的时候，由于AB胶的原因或者因为操作者的原因会使聚氨酯片和基模的表面接触不理想，造成凹凸不平。 所以模具制作是球面零件抛光作业前的必需工作，否则无法加工。（注意：如果用下摆机加工，模具制作工作应做在抛光加工之前） 五、附件： 1、