一种新型四元绿色阻垢剂的合成和性能研究.docVIP

验结果 2.1 红外光谱分析 采用美国 Nicolet- AVATAR- 360- FT.TR 型傅 里叶红外光谱仪对 PMAAS 结构进行分析。结果如 图 1 所示。从图 1 可知, 共聚物含有羧基, 并在波数 为 1 160.05 cm -1 , 1 221.34 cm -1 处出现膦酰基和磺酸 基团中的 S=O 不对称伸缩振动峰, 说明共聚物含 有该聚合物的特征基团膦酰基和磺酸基。 图 1 PMAAS 的红外谱图 2.2 合成条件对阻垢率的影响 2.2.1 单体配比 单体配比不同, 对阻垢效果有很大影响。对阻垢 剂而言, 只有当大分子长链中的各种特性官能团的 比例适当, 聚合物阻垢剂才有良好的阻垢性能。在水 溶液中, 固定引发剂的用量为单体总质量的 15%, 聚合温度为 90 ℃, 聚合反应时间为 4 h, 改变单体的 质量比, 测定聚合物阻垢效果, 见表 1。 表 1 单体配比对阻碳酸钙和硫酸钙垢率的影响 从表 1 可知, 当n(MA) ∶n(AA) ∶n(AM) ∶n(SMAS) = 11∶1.5∶1∶1.0 时, 聚合物阻垢效果最好, 对碳酸钙和 硫酸钙垢的阻垢率均达到 90%以上。 2.2.2 聚合温度 在 n(MA) ∶n(AA) ∶n(AM) ∶n(HCHO) ∶n(H 3 PO 3 ) ∶ n(SMAS) = 11∶1.5∶1∶2∶2∶1, H 2 O 2 质量为单体总质量 的 15%的条件下聚合 4 h, 研究了不同反应温度下聚 合产物 PMAAS 的综合性能。从图 2 可以看出, 当聚 合温度低于 90 ℃时, PMAAS 对钙垢的阻垢性能随 温度的升高而上升, 温度继续上升对碳酸钙垢的阻 垢率略有上升, 但是改变不多, 而对硫酸钙垢的阻 垢率已呈下降趋势。综合考虑聚合体系反应条件和 PMAAS 的阻垢性能, 优选聚合反应温度为 90 ℃。 图 2 聚合温度对阻垢率的影响 2.2.3 引发剂用量 在反应温度为 90 ℃, n(MA) ∶n(AA) ∶n(AM) ∶ n(HCHO) ∶n(H 3 PO 3 ) ∶n(SMAS) = 11 ∶1.5 ∶1 ∶2 ∶2 ∶1 的条件下, 聚合反应 4 h, 仅改变引发剂的用量, 研究 共聚物性能受引发剂浓度影响的变化趋势, 以优选 最佳引发剂用量, 结果见图 3。 从图 3 可以看出, 引发剂用量大, 合成聚合物 相对分子质量小, 聚合完全, 阻垢效果好。但引发剂 用量太大, 生成自由基多, 聚合速率快, 链终止速度 也随之加快, 导致聚合物相对分子质量过小, 阻垢 率下降。反之, 引发剂用量少, 聚合不完全, 残余单 体多。综合考虑引发剂质量为单体总质量的 15%左 右, 聚合物综合性能好。 2.2.4 聚合时间 在单体配比 n(MA) ∶n(AA) ∶n(AM) ∶n(HCHO) ∶ n(H 3 PO 3 ) ∶n(SMAS) = 11∶1.5∶1∶2∶2∶1, 引发剂质量 为单体总质量的 15%, 反应温度控制在 90 ℃的条件 下, 改变聚合时间, 研究聚合时间对共聚物阻垢性 能的影响, 结果见图 4。由图 4 可知, 在反应时间为 4 h 以内时, 聚合反应时间越长, PMAAS 阻垢性能越 n(MA) ∶n(AA) ∶n(AM) ∶n(SMAS) 阻垢率 /% CaCO 3 CaSO 4 11∶1.5∶1∶0.25 69.2 62.3 11∶1.5∶1∶0.50 75.8 64.5 11∶1.5∶1∶0.75 82.6 77.8 11∶1.5∶1∶1.00 98.3 90.6 11∶1.5∶1∶1.25 79.6 72.3 11∶1.5∶1∶1.50 71.5 65.8 图 3 引发剂用量对阻垢率的影响 试验研究 工业水处理 2006- 11, 26(11) 54一种新型四元绿色阻垢剂的合成和性能研究 张云霞, 郝三存, 刘明华 (华侨大学材料科学与工程学院, 福建 泉州 362021) [摘要] 以马来酸酐(MA)、丙烯酸(AA)、丙烯酰胺(AM)、甲代烯丙基磺酸钠(SMAS)等为原料, 采用溶液聚合法合 成出兼含膦酰基和磺酸基的四元聚合阻垢剂 PMAAS, 通过实验确定了合成聚合物阻垢剂的最佳工艺条件。并测得 PMAAS 在质量浓度为 7 mg/L 时, 对 CaCO 3 垢的阻垢率可达 99%, 对 CaSO 4 垢的阻垢率达 88.5%。红外光谱分析结果 表明: 四元共聚物 PMAAS 中含有羧基、膦酰基和磺酸基等官能团。 [ 关键词] 阻垢剂; 溶液聚合; 四元共聚物 [ 中图分类号] TQ085 + .412 [文献标识码] B [文章编号] 1005- 829X(2006)11- 0053- 03 Abstract:A novel q