《DM—300镀膜机.docVIP

???????? 实验原理 真空镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。 真空镀膜有两种方法,一是蒸发,一是溅射。本次实验采用蒸发方法。在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上。 ???????? 真空系统(DM—300镀膜机) ???????? 蒸发源 蒸发源的形状如下图，大致有螺旋式(a)、篮式(b)、发叉式(c)和浅舟式(d)等 ???????? 蒸发源选取原则 1 有良好的热稳定性，化学性质不活泼，达到蒸发温度时加热器本身的蒸汽压要足够底。 2 蒸发源的熔点要高于被蒸发物的蒸发温度。加热器要有足够大的热容量。 3 蒸发物质和蒸发源材料的互熔性必须很底，不易形成合金。 4 要求线圈状蒸发源所用材料能与蒸发材料有良好的浸润，有较大的表面张力。 5 对于不易制成丝状、或蒸发材料与丝状蒸发源的表面张力较小时，可采用舟状蒸发源。 ???????? 薄膜厚度分布 设蒸发源为点蒸发源，单位时间内通过任何方向一立体角dω的质量为： 蒸发物质到达任一方向面积元ds质量为： 设蒸发物的密度为ρ，单位时间淀积在ds上的膜厚为t，则 比较以上两式可得： 对于平行平面ds，φ=θ，则上式为： 由： 可得在点源的正上方区域(δ=0)时： ???????? 薄膜的厚度测量 –????? 干涉显微镜法 干涉条纹间距Δ0 ，条纹移动Δ，台阶高为： 测出Δ0 和Δ，即可测得膜厚t 其中λ为单色光波长，如用白光，λ取 ???????? 实验步骤 1.绕制钨篮，清洗钨篮和载玻片,铝丝，祛除表面氧化物。 2制作基片，.用一窄薄铝片遮盖在载玻片上，以便镀膜完成后在基片上形成台阶。 3. 将钨篮和钼舟固定在钟罩内的电极上，并放入铝丝。, 4抽至真空度达10-6torr以上,开始蒸发镀膜。 5.镀膜完成后,处理真空机组的后续工作。 6.用称重法测薄膜的厚度。 7.用干涉法测薄膜的厚度。 ? ???????? 思考题 1扩散泵启动前必须要有机械泵提供的前级真空度几pa以上，否则就会使 ?(a)扩散泵不能正常工作??? (b) 扩散泵抽速降低???? (c) 扩散泵返油 ?? [答案：(a)] 2真空蒸发镀膜时，轰击装置的作用是 ?(a)使基片升温???? (b) 使钟罩升温????? (c) 清洁基片和钟罩内壁 ?? [答案：(c)? ] 3 打开钟罩之前，必须充大气，这是为了 ?(a)用大气冷却基片???? (b) 升钟罩时不损坏升降电机???? (c) 大气可以保护钟罩 ? [ 答案：(b)] 4 用干涉显微镜测膜厚，如果仪器调节一切正常，不出现干涉条纹的原因可能有 ? (a)灯光太暗????? (b) 镀膜层放反????? (c) 镀膜层太薄 ?? [答案：(b)(c) ] 5 我们使用的DM-300真空镀膜机，为什么在机械泵和扩散泵之间要加储气罐？ ???????? 本实验重点 1． DM-300镀膜机的真空系统结构及正确操作 2． 分别用钨篮和钼舟做蒸发源，掌握好二者的蒸发电流和蒸发时间是镀膜质量好坏的关键。 3． 干涉显微镜的结构原理及光路调节。 ???????? 本实验难点 1．基片样品的制作，遮盖金属片的边缘一定要非常光滑整齐，遮盖金属片要紧紧压住基片。 2． 蒸发电流和蒸发时间的掌握，为避免蒸发材料跌落并清除杂质，开始宜缓慢升温，待蒸发材料融化成液滴时再加大电流升温蒸发，直到将材料全部蒸发光，确保薄膜的厚度。 3． 称重法测薄膜厚度要求基片足够大，膜足够厚，天平读数精度足够高。 4． 干涉法测薄膜厚度，干涉显微镜的结构与实物对照。 5． 调节光路找到干涉条纹，再调到干涉条纹出现最大弯曲，即可测量。 ???????? 备课笔记 ???????? 薄膜材料制备及应用 薄膜材料是材料科学的一个分支，涉及的内容有： –????? 薄膜材料的制备； –????? 薄膜材料的成核与生长理论； –????? 薄膜材料的表征技术； –????? 薄膜材料的性能及应用。 薄膜制备大体上分为： 化学气相沉积(chemical vapor deposition ; CVD)? –????? 借助空间气相化学反应在衬底表面上沉积固态薄膜。 物理气相沉积(physical vapor deposition ; PVD) –????? 用物理方法将源物质转移到气相中，在衬底表面上沉积固态薄膜。 真空蒸发； 溅射； 分子束外延等。 熔点低于2000K的金属才能用于蒸发镀膜，难熔金属用溅射法镀膜。 有些金属会和蒸发源形成合金，原则上每种镀材应有专用的蒸