光敏高分子[精选].pptVIP

例如：光二聚交联抗蚀剂 聚肉桂酸酯类光刻胶。在之外光线下发生光交联反应，常加入5-硝基厄、芳香酮作增感剂，是良好的负性光刻胶。 再如：环化橡胶抗蚀剂 环化橡胶双叠氮体系光刻胶，也是一种负性光刻胶。是利用芳香族双叠氮化合物作为环化橡胶的交联剂，属于聚合物加感光化合物型光刻胶。 叠氮类化合物在紫外光照射下发生分解，析出N2，并产生氮烯（nitrenen，RN：），它有很强的反应能力，可向不饱和键加成，还可插入C-H和进行偶合。 例如：含重氮萘醌的正性光刻胶 临重氮醌在紫外光作用下失去N2后进行重排，转变成烯酮，然后经过水解产生可溶于稀碱的茚酸，它是一类广泛使用的正性光刻胶。 ㈡光分解型 采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶 。 光刻胶根据在显影过程中曝光区域的去除或保留可分为两种－正性光刻胶（positive photoresist）和负性光刻胶（negative photoresist）。 正性光刻胶之曝光部分发生光化学反应会溶于显影液，而未曝光部份不溶于显影液，仍然保留在衬底上，将与掩膜上相同的图形复制到衬底上。 负性光刻胶之曝光部分因交联固化而不溶于阻显影液，而未曝光部分溶于显影液，将与掩膜上相反的图形复制到衬底上。 2. 1 Photoresists 简介 Resist Base Coat SiO2 Si Mask Expose Positive Negative Develop Etch（蚀刻） Strip（剥膜） 光敏涂料 光敏涂料 光敏涂料的主成分 — 预聚体prepolymer 光敏涂料的组成与性能关系 感光高分子体系的设计与构成 一.光敏涂料的主成分 — 预聚体prepolymer： 分子量较小或可溶的线性聚合物，含有可聚合基团，具有一定 的粘度和合适的熔点。 环氧特点：粘结力强，耐腐蚀。 引入丙烯酸、酸酐、富马酸是为了引入双键，提供光交联反应活性点。 1）环氧树脂型低聚物epoxy resin oligomer —CH2— O ( O— —C— —OCH2CHCH2 )n O O —O— —C— —O—CH2— O O 引入不饱和基团 O A + CH2=CHCOOH CH3 CH3 叔胺 CH2=CHC—O—CH2CH—A—CHCH2—O—CCH=CH2 O OH CH3 CH3 O OH OH O O 2）不饱和聚酯unsaturated polyester： 为了引入双键，以不饱和羧酸衍生物与二元醇缩合生成酯类。 3）聚醚(polyether)\聚酯(polyester）： 由环氧化合物与多元醇缩聚而成，游离羟基为光交联点，粘度低， 价格低。 二. 光敏涂料的组成与性能关系 性能：流平性levelling property，机械性能mechanical property，化学稳定性chemical stability，光泽brilliance，粘结力cohesive force， 固化速度curing speed等。 光敏涂料的组成与涂层的性能关系密切。 组成：预聚物prepolymer，光引发剂photoinitiator，活性稀释剂 reactive diluent（交联剂），热阻聚剂inhibitor，光敏剂photosensitizer等。 1）流平性：涂料被涂刷之后，其表面在张力作用下迅速平整光滑 的过程。 影响：涂料粘度，表面张力，润湿度 稀释剂 表面活性剂 2）机械性能：包括形成涂料膜的硬度、韧性、耐冲击力、柔顺性。 影响：树脂种类，光交联度（聚合度） 3）化学稳定性：涂膜的耐化学品、抗老化能力。 影响：化学组成 4）涂层光泽：低光、哑光、高光 5）粘结力：涂层和低物的粘结力 影响：相容性，界面接触程度，涂层表面张力，固化条件。 三. 感光高分子体系的设计与构成 从高分子设计角度考虑，首先引入感光性化合物（基团），形式如下： 1）将感光性化合物加入到高分子中： 线性高分子 小分子感光化合物 物理混合 感光高分子 线性高分子：含有活泼氢的线性高分子 含有双键的不饱和高分子 2）在高分子主链或侧链引入感光基团：这一方法应用前景看好， 稳定性好，感光性能佳。 3）由多种组分构成的光聚合体系： ① 将下列光敏基团引入各种单体或预聚体中： 乙烯基vinyl、丙烯酰基acryloyl、烯醛olef