离子印迹技术[精选].docVIP

模板分子+功能单体-------------(聚合物-------(印迹聚合物 常见的功能单体：壳聚糖、改性壳聚糖、丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯苯甲酸、乙烯基吡啶、乙烯基咪唑、苯胺、酪胺等 常用的交联剂：戊二醛、环氧氯丙烷、乙二醇双缩水环氧丙基醚、乙二醇二甲基丙烯酸酯等 引发剂：硫酸钾（KSP）、偶氮类物质—偶氮二异丁腈 溶剂和致孔剂：乙腈、氯仿、吐温、【四氢呋喃、甲醇、水】’二甲基甲酰胺2除掉O2 ②加入有机酸(柠檬酸)使得生成的Ｆｅ３Ｏ４ 分散性好 (1) Massart水解法:向NaOH中加入一定摩尔比的Ｆｅ２＋和Ｆｅ３＋ (2) 滴定水解法：将氨水溶液滴加到一定摩尔比的Ｆｅ２＋和Ｆｅ３＋混合溶液中,当达到pH=6-7时,铁盐水解生成磁性Fe304纳米粒子。 2.Fe304@Si02微球的合成：（Stober法） 该方法是以正硅酸四乙酯(TEOS)作为表面修饰剂,并为其提供硅源，以氨水作为 催化剂,在无水乙醇或者醇/水的混合体系中,利用TEOS的水解和沉积作用,在磁性Fe304纳米粒子表面沉积一层无定形的Si02,使之形成核壳式Fe304@Si02结构。 TEOS(正硅酸乙酯) Fe304+无水乙醇+蒸馏水------( 加入氨水+TEOS(正硅酸乙酯)-------( 无水乙醇反复洗涤产物----(真空干燥 3.Fe304@Si02微球的活化: Fe304@ Si02 + HCl---------反复洗涤，并真空干燥 4.磁性载体的表面修饰: 氨基化Fe304@ SiOz (Fe304 @ Si02-APS )的合成: 活化的Fe304@Si02+无水甲苯------加入三乙胺+APS(7-氨丙基三乙氧基硅烷) 110℃ ----(产物磁分离并用甲苯和无水乙醇反复洗涤-----(真空干燥 羧基化Fe304@ Si02( Fe304@ Si02-APS-MA)的合成: Fe304@ SiOz (Fe304 @ Si02-APS )悬浮于DMF(N,N’-二甲基甲酰胺)----(缓缓滴入溶有马来酸酐的DMF，搅拌---(产物磁分离并用DMF和无水乙醇反复洗涤----(真空干燥 磁性离子印迹聚合物的制备 模板离子：Cd2+(CdCl2·H20) 功能单体：MAA(甲基丙烯酸)/羧甲基壳聚糖 溶剂：DMF(N,N’-二甲基甲酰胺)/甲醇 交联剂:戊二醛 引发剂：AIBN(偶氮二异丁腈) 洗脱液：盐酸 CdCl2·H20加入到DMF中溶解---(加入含有MAA的甲醇---( 加入Fe304@ Si02-APS-MA+戊二醛+ AIBN-------------( 产物磁分离并用DMF和甲醇反复洗涤洗去未反应物-----(HCL洗脱至没有Cd2+ ----(蒸馏水洗涤至中性-----(真空干燥 结构表征: 1.原子力显微镜（AFM）（三维结构) a 磁性纳米粒子 b 印迹物（未洗脱）c 印迹物（洗脱镉离子后） 2. 红外光谱（FT-IR） 3．透射电子显微镜（TEM）(???) 4. 震动样品磁强计（VSM） 吸附动力学和热学研究 Scatchard等温吸附平衡模型：（一配基一受点） R + F ==== B KD=K+1/K-1 Scatchard方程 B/F=-1/KD*B+1/KD*BMAX BMAX=R+B(稳态) B：结合态浓度 F：自由基浓度 以B和B/F进行线性回归 B为自变量，B/F为因变量，-1/KD为直线的斜率，BMAX/KD为直线在B/F轴上的截距，BMAX为直线在B轴上的截距，其中，KA=1/KD为结合常数② Langmuir等温吸附平衡模型： qe=qmbLCe/1+bLCe qm:单位吸附剂表面盖满单分子层时的吸附量，即饱和吸附量；bL为吸附系数，与温度和吸附热有关 Ce/qe与Ce具有线性关系，即： Ce/qe= Ce/qm+1/(BLqm) [由此式作图可得出qm和bL] 当吸附量很小，即bLCe《1时，qe= qmbLCe，qe与Ce成正比，等温线近似为一条直线；当吸附量很大，即bLCe 》1时， qe = qm,平衡吸附量接近于定值，等温曲线趋于水平 Freundlich等温吸附平衡模型 qe=KFCe1/n KF:是Freundlich的吸附系数，与吸附剂的性质和用量、吸附质的性质、温度有关，n是Freundlich常数，吸附体系的性质有关，通常大于1.n决定了等温线的形状，一般认为0.11/n0.5时易于吸附，1/n2时则难以吸附，利用KF和n这