【2017年整理】制药工艺考试重点.docVIP

PAGE PAGE 8 化学制药工艺学复习题 一、单项选择题： 1．在药物合成工艺路线中，有些反应易于控制，有些不易控制。不易于控制的反应类型是（ B ） A．平顶反应 B．尖顶反应 C．尖底反应 D．平底反应 2．一个单分子反应一般属于（ B ） A．零级反应 B．一级反应 C．二级反应 D．．三级反应 3．电子供体溶剂的静电因素EF值为 （ B ） A．0-2 Ｂ．2-20　　　　Ｃ．15-50　　Ｄ．≥50 A．++++ B．++++ C．++++ D．++++ 4．对于平行反应，可通过改变一些反应条件来改变生成物的比例，如：（ D ） A．配料比 B．反应时间　 C．反应规模　 D．反应温度 5．极性溶剂的介电常数应该在（ A ） A．15以上 B．18以上 C．20以上 D．18以下 6．根据ICH对三类溶剂的使用原则，对第一类溶剂，由于它不可接受的毒性和对环境的有害作用，我们的原则是：（ B ） A．不能使用 B．尽量避免使用 C．限制使用 D．合理使用 7、对于平行反应，可通过改变一些反应条件来改变生成物的比例，如：（ D） A．配料比 B．反应时间 C．反应规模 D．催化剂 8．非极性溶剂的介电常数应该在（ D ） A．15以上 B．18以上　 C．20以上 D．．15以下 9．羟基类溶剂的静电因素EF值为 （ C