薄膜物理与技术要点总结..docVIP

第一章 最可几速率：根据麦克斯韦速率分布规律，可以从理论上推得分子速率在处有极大值，称为最可几速率,Vm速度分布 平均速度:，分子运动平均距离 均方根速度:平均动能 真空的划分：粗真空、低真空、高真空、超高真空。 真空计：利用低压强气体的热传导和压强有关； (热偶真空计) 利用气体分子电离；（电离真空计） 真空泵：机械泵、扩散泵、分子泵、罗茨泵 机械泵：利用机械力压缩和排除气体 扩散泵：利用被抽气体向蒸气流扩散的想象来实现排气作用 分子泵：前级泵利用动量传输把排气口的气体分子带走获得真空。 第二章 1.什么是饱和蒸气压？蒸发温度？ 饱和蒸气压：在一定温度下，真空室内蒸发物质的蒸气与固体或液体平衡过程中所表现出的压力 蒸发温度：物质在饱和蒸气压为10-2托时的温度。 2.克--克方程及其意义？ 克-克方程，可以知道饱和蒸气压和温度的关系，对于薄膜的制作技术有重要实际意义, 帮助我们合理地选择蒸发材料和确定蒸发条件. 3.蒸发速率、温度变化对其的影响？ 在蒸发源以上温度蒸发，蒸发源温度的微小变化即可以引起蒸发速率发生很大变化。 4.平均自由程与碰撞几率的概念？ 气体分子处于不规则的热运动状态，每个气体分子在连续两次碰撞之间的路程称为“自由程”，其统计平均值称为“平均自由程”。 蒸发材料分子能与真空室中残余气体分子相互碰撞的数目占总的蒸发材料分子的百分数 5.点蒸发和小平面蒸发源特性？ 点蒸发源：能够从各个方向蒸发等量材料 小平面蒸发源：发射具有方向性，使在角方向蒸发的材料质量和cos成正比。 6.拉乌尔定律？如何控制合金薄膜的组分？ 拉乌尔定律：在定温下，在稀溶液中，溶剂的蒸气压等于纯溶剂蒸气压 乘以溶液中溶剂的物质的量分数 。 为保证薄膜组成，经常采用瞬时蒸发法、双蒸发源法（将要形成合金的每一成分，分别装入各自的蒸发源中，然后独立地控制其蒸发速率，使达到基板的各种原子符合组成要求。） 7.MBE的特点？ （1）是以系统中的四级质谱仪、原子吸收光谱等仪器，精密的监测分子束的强度和种类， 从而严格控制生长过程和生长速率。 （2）膜的组分和掺杂浓度可随源的变化迅速做出调整。 （3）衬底温度低，降低了界面上热膨胀引起的晶格失配效应和衬底杂质对外延层的自掺杂扩散影响。 （4）是一个动力学过程，它可以生长按照普通热平衡生长方法难以生长的薄膜。 （5）生长速率低，有利于实现精确控制厚度、结构与成分和形成陡峭异质结 （6）可用多种分析仪器实时观察生长面上的成分、结构和生长过程，有利于科学研究 8.膜厚的定义？监控方法？ 膜厚的定义，应该根据测量的方法和目的来决定。 称重法（微量天平法 石英晶体振荡法 ） 电学方法（电阻法 电容法 电离式监控记法） 光学方法（光吸收法 光干涉法 等厚干涉条纹法） 触针法（差动变压器法 阻抗放大法 压电元件法 第三章 1.溅射镀膜和真空镀膜的特点？ 1.任何物质都可以溅射，尤其是高熔点、低蒸气压元素化合物2.溅射膜和基板的附着性好 3.溅射镀膜密度高，针孔少，且膜层的纯度较高4.膜度可控性和重复性好 2.正常辉光放电和异常辉光放电的特征？ 正常辉光放电：在一定电流密度范围内，放电电压维持不变。 异常辉光放电：电流增大时，放电电极间电压升高，且阴极电压降与电流密度和气体压强有关。 3.射频辉光放电的特点？ 1.在辉光放电空间产生的电子可以获得足够的能量，足以产生碰撞电离； 2.由于减少了放电对二次电子的依赖，降低了击穿电压； 3.射频电压可以通过各种阻抗偶合，所以电极可以是非金属材料。 4.溅射的概念及溅射参数？ 溅射是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或者分子从表面射出的现象。 1.溅射阈值2.溅射率及其影响因素3.溅射粒子的速度和能量分布4.溅射原子的角度分布 5.溅射率的计算 5.溅射机理？ 1.溅射率随入射离子能量增大而增大，在离子能量达到一定程度后，由于离子注入效应，溅射率减小； 2.溅射率的大小与入射离子的质量有关； 3.当入射离子能量小于溅射阈值时，不会发生溅射； 4.溅射原子的能量比蒸发原子大许多倍； 5.入射离子能量低时，溅射原子角度分布不完全符合余弦定律，与入射离子方向有关； 6.电子轰击靶材不会发生溅射现象。 6.二极直流溅射、偏压溅射、三极或四极溅射、射频溅射、磁控溅射、离子束溅射结构及原理？ 二极直流溅射靶材为良导体,依靠气体放电产生的正离子飞向阴极靶，一次电子飞向阳极，放电依靠正离子轰击阴极所产生的二次电子，经阴极加速后被消耗补充的一次电子维持。 三极或四极溅射: 热阴极发射的电子与阳极产生等离子体,靶相对于该等离子体为负电位.为把阴极发射的电子全部吸引过来，阳极上加正偏压，20V左右。为使放电稳定，增加第四个电极——稳定化电极. 偏压溅射: 基片施加负偏