(杂质分析、质量标准依据.docVIP

3.2.P.5.5 　杂质分析 3.2.P.5.5.1 制剂中的有关物质 杂质的化学名称、结构式、来源、控制限度见表3.2.P.5.5.1.1 表3.2.P.5.5.1.1 杂质分析情况 杂质名称 杂质结构 杂质来源 杂质控制限度 是否定入质量标准 左氧氟沙星杂质A 合成工艺杂质 不得过0.3% 定入原料质量标准 不得过0.3% 定入制剂质量标准 左氧氟沙星杂质 降解产物（去羧基左氧氟沙星杂质 降解产物（去氟左氧氟沙星杂质 合成工艺杂质 无控制限度 未定入质量标准 左氧氟沙星杂质 降解产物（去甲基 不得过0.3% 定入制剂质量标准 左氧氟沙星杂质 降解产物（氮氧化氧氟沙星 无控制限度 未定入制剂质量标准 3.2.P.5.5.2 制剂特有的有关物质特征 左氧氟沙星杂质A、B、C、D、E、F氧氟沙星共个已知杂质，依次分别为去哌嗪环、去羧基、去氟、氟取代位置不同、去甲基以及氮氧化的化合物。氧氟沙星杂质A、D英国药典氧氟沙星原料药采用TLC法控制杂质A，采用HPLC法控制其他已知和未知杂质。杂质A杂质AHPLC法，使用硫酸铜．L．异亮氨酸溶液等手性试剂与有机相的混合溶液为流动相，十八烷基硅烷键合硅胶为固定相，中国药典2010年版盐酸左氧氟沙星1．0％以内。 美国药典重点关注了杂质desfluoroofloxacin，日本药局方重点关注了ofloxacin demethyl substance，均与药典的杂质E相同，是氧氟沙星的去甲基化合物，该化合物为氧氟沙星的主要降解产物，光照下极易产生。A和左氧氟沙星相关物质B的结构，分别为中国药典2010年版盐酸左氧氟沙星E、A。 3.2.P.5.5.3 制剂特有的有关物质的分析 有关物质专属性（空白辅料破坏性试验）结果发现：空白辅料在酸(0．1mol／L 盐酸)、碱（0．1mol／L NaOH)、高温、3％的H2O2、光照等条件下均不产生杂质。（结果见表3.2.P.5.3.1.3）（相关图谱见《图谱集》第1页～第14页） 有关物质专属性（样品破坏性试验）结果发现：样品在酸(0．1mol／L 盐酸)、碱（0．1mol／L NaOH)、高温、3％的H2O2等条件下均未产生超过0.1%的单一杂质。光照条件下可产生两个明显的降解产物峰保留时间分别为：23.025（0.78%）、25.114（0.20%），保留时间25.114的峰与杂质杂质 稳定性影响因素试验、稳定性加速试验（6个月）、稳定性长期试验（6个月）数据表明：在已放置的时间内，均未产生超过0.1%的单一杂质，表明本产品经压片、包衣后对盐酸左氧氟沙星本品为仿制药，质量标准参照按中国药典20版部标准制定，质量标准检查其余与中国药典20版部标准一致。与中国药典20版部标准一致 不显红棕色 申报标准与中国药典20版部标准一致phenomenex Luna 5μ C18(2) 100A 250×4.6mm 5 micron 检测器：UV检测器；检测波长：294nm 柱温: 40℃ 流动相：硫酸铜D-苯丙氨酸溶液（取D-苯丙氨酸1.32g与硫酸铜1g，加水1000ml溶解后，用氢氧化钠试液调节pH值至3.5）—甲醇（82：18） 流速:1 ml/min 具体试验操作: 取本品细粉适量，用0.1mol/L的盐酸溶液溶解并稀释制成每1ml中约含左氧氟沙星0.1mg的溶液，滤过，取续滤液适量，用流动相稀释制成每1ml中含左氧氟沙星0.02mg的溶液，作为供试品溶液；另取氧氟沙星对照品，加0.1mol/L盐酸溶液溶解并稀释制成每1ml中约含氧氟沙星0.1mg的溶液，精密量取适量，用流动相稀释制成每1ml中含氧氟沙星0.04mg的溶液，作为对照品溶液。取20μl注入液相色谱仪，记录色谱图，右氧氟沙星与左氧氟沙星依次流出，供试品溶液主峰的保留时间应与对照品溶液中左氧氟沙星峰（后）的保留时间一致。 表 3.2.P.5.6.3.1 鉴别(2) 批号 项目123 空白辅料 鉴别(2) 与对照品溶液中左氧氟沙星峰的保留时间一致。 与对照品溶液中左氧氟沙星峰的保留时间一致。 与对照品溶液中左氧氟沙星峰的保留时间一致。 无左氧氟沙星峰 申报标准与中国药典20版部标准一致 显氯化物 鉴别反应 显氯化物 鉴别反应 不显氯化物鉴别反应 申报标准与中国药典20版部标准一致phenomenex Luna 5μ C18(2) 100A 250×4.6mm 5 micron 检测器：UV检测器； 检测波长：294nm； 柱温: 40℃ 流动相：醋酸铵高氯酸钠溶液（取醋酸铵4.0g和高氯酸钠7.0g，加水1300 ml使溶解，用磷酸调节p