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VLSI系统设计 第2章 可制造性设计 设计开始之前 （2015-2016） 本章概要： 设计与工艺接口问题 工艺抽象及目的 电学设计规则 几何设计规则 工艺检查与监控 2.1 设计与工艺接口问题 基本问题—工艺线选择 设计基础参数 设计与工艺接口 2.1.1 基本问题—工艺线选择 一条成熟的工艺线，各项工艺参数都是一定的，不允许轻易变更，而这些参数往往就成为我们设计的制约因素。 因此，设计之初必须考虑：这条工艺线对我的设计是否合适。 2.1.2 设计基础参数 电参数： 应用萨方程 衬偏效应(γ系数) 上升、下降时间（负载电容） 迁移率 …… 版图参数： 尺寸 间距 …… 太多的不确定，工艺线能否提供这些参数？ 2.1.3 设计与工艺接口 如果： 工艺线提供电学设计和版图设计的规则，形成设计规则文件（工艺抽象的结果）。 工艺线提供工艺加工质量的监测方法，形成PCM（Process Control Monitor） （实际制造的的结果） 。 则：设计问题简单了，设计依据充分了，界限明确了。 这些就构成清晰地接口：设计与工艺接口。这个接口同时也成为了设计与工艺的共同制约，成为设计与工艺双方必须共同遵守的规范。 2.2 工艺抽象及目的 工艺对设计的制约 工艺抽象 对材料参数的抽象