原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
集成电路制造技术 主 讲：毛 维 mwxidian@126.com 西安电子科技大学微电子学院 垂直式热氧化炉管系统 反应离子刻蚀设备 离子注入系统的原理示意图 简单平行金属板直流二极管溅射系统 尾气 e- e- e- DC 直流二极管 溅射装置 衬底 1) 电场产生 Ar+ 离子 2) 高能Ar+ 离子和 金属靶撞击 3) 将金属原子 从 靶中撞击 阳极(+) 阴极 (-) 氩原子 电场 金属靶 等离子体 5) 金属淀积在衬底上 6) 用真空泵将多余 物质从腔中抽走 4) 金属原子向衬底迁移. 进气 + + + + + * * CMOS PROCESS FLOW INTRODUCTION 加热器1 加热器2 加热器3 压力 控制器 气体流量 控制器 晶圆操作控制器 晶舟 装载器 排出 控制器 温度控制器 微控制器 HMDS：六甲基乙硅氮烷——(CH3)6Si2NH 作用：去掉SiO2表面的-OH，增强附着力 离子源 分析用磁铁 加速管 离子束 等离子体 工艺腔 吸出组件 扫描圆盘 *
文档评论（0）