化学气相沉积要点.pptVIP

化学气相沉积(CVD)  制样与分析 主讲人：杨彩凤 指导老师：秦丽溶 总览 一、CVD基础知识 1.1 CVD原理 定义 步骤 CVD常见沉积反应 1.2 CVD技术 概念 分类 流程图 特点 1.3 CVD生长方式 汽-液-固（VLS）生长方式 汽-固（VS）生长方式 1.1 CVD原理 1.1.1 什么是CVD CVD是利用气态物质在固体表面进行化学反应，生成固态沉积物的工艺过程。 （1）热分解反应 ?氢化物分解，沉积硅： ?金属有机化合物分解，沉积 ?羰基氯化物分解，沉积贵金属及其他过渡族金属 （3）化学传输反应：主要用于稀有金属的提 纯和单晶生长 ? 的提纯 ? 单晶生长 1.1.3 2.化学气相沉积的基本条件 （1）在沉积温度下，反应物必须有足够高的蒸汽压。 （2）除了需要得到的固体沉积物外，化学反应的其他生成物都必须是气态。 （3）沉积物本身的饱和蒸汽压应足够低，以保证它在整个反应和沉积过程中都一直保持