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CMOS电路
1.4 场效应管概念归纳 FET):是利用输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件。它仅靠半导体中的多数载流子导电,又称为单极型晶体管。
场效应管特点:体积小,重量轻、寿命长、输入电阻高,噪声低、热稳定性好、抗辐射能力强、省电。
场效应管分类:结型和绝缘栅型两种。
结型场效应管分类:N沟道和P沟道两种。
N沟道结型场效应管正常工作时,在漏-源之间加正向电压 ,形成漏极电流 。 0,耗尽层承受反向电压,既保证栅-源之间内阻很高,又实现 对沟道电流的控制。 结型场效应管其工作原理: 1. =0时, 对导电沟道的控制作用,如下图所示。 =0时, =0,耗尽层很窄,导电沟道很宽,如图(a)所示。
增大时,耗尽层加宽,沟道变窄,沟道电阻增大,如图(b)所示。
增大到某一数值时,耗尽层闭合,沟道消失,如图(c)所示,沟道电阻趋于无穷大,称此时 的值为夹断电压 。
2. 为 ~0中某一固定值时, 对漏极电流 的影响 =0,由 所确定的一定宽的导电沟道,但由于d-s间电压为零,多子不会产生定向移动, =0。
0,有电流 从漏极流向源极,从而使沟道各点与栅极间的电压不再相等,沿沟道从源极到漏极逐渐增大,造成靠近漏极一边的耗尽层比靠近源极一边的宽。如右图(a)所示。
从零逐渐增大时, = - 逐渐减小,靠近漏极一边的导电沟道随之变窄。电流 随 线性增大。
增大,使 = ,漏极一边耗尽层出现夹断区,如图(b)所示,称 = 为预夹断。
继续增大, ,夹断区加长,如图(c)所示。这时,一方面自由电子从漏极向源极定向移动所受阻力加大,从而导致 减小;另一方面,随着 的增大,使d-s间的纵向电场增强,导致 增大。两种变化趋势相抵消, 表现出恒流特性。 结型场效应管的特性曲线 1.输出特性曲线
输出特性表示:在栅源电压一定的情况下,漏极电流 与漏源电压 之间的关系,即
= =常数
曲线如图所示。 输出特性可以分为四个工作区: (1)可变电阻区:沟道电阻随 大小而变,故称为可变电阻区,
(2)夹断区:电流 =0,场效应管呈现一个很大的电阻。
(3)恒流区: 不随 的增大而变化, 趋向恒定值。在这个区域, 只随 的增大而增大。表现出场效应管电压控制电流的放大作用。
(4)击穿区: 增大, 突然加大,反向偏置的PN结超过承受极限而发生沟道击穿, 和 失去对 的控制作用,若不加限制,场效应管会损坏。
2.转移特性:漏极电流 与栅源电压 的关系曲线称为转移特性。即
= 常数
N沟道结型管 对 的控制规律如图所示。 夹断电压:当 为确定值, 由零向负方向变化, 将减小, = ,使 =0,此电压便是夹断电压。
饱和漏电流:当 =0时,漏极电流最大,称为饱和漏电流,用IDSS表示。
MOS管:栅极与源极、栅极与漏极之间均采用SiO2绝缘层隔离而得名,又称MOS管。
特点:栅-源间输入电阻高,达1010 以上,温度稳定性好、集成工艺简单,广泛用于大规模和超大规模集成电路中。
分类:增强型管(N沟道和P沟道)和耗尽型管(N沟道和P沟道)。
增强型管定义:栅-源电压 为零时漏极电流为零。
耗尽型管定义:栅-源电压 为零时漏极电流不为零。
N沟道增强型MOS管:当栅-源电压变化时,将改变衬底靠近绝缘层处感应电荷的多少,从而控制漏极电流的大小。 NMOS管工作原理 =0, 0时,由于SIO2的存在,栅极电流为零。栅极金属层将聚集正电荷,排斥P型衬底靠近SIO2一侧的空穴,使之剩下不能移动的负离子区,形成耗尽层,如右图(a)所示。
增大,一方面耗尽层加宽,另一方面将衬底的自由电子吸引到耗尽层与绝缘层之间,形成一个N型层,称为反型层,如右图(b)所示。
这个反型层构成了漏-源之间的导电沟道。使沟道刚刚形成的栅-源电压称为开启电压 。 愈大,反型层愈厚,导电沟道电阻愈小。
时, 0,将产生漏极电流。如下图所示。 较小, 增大使 线性增大,沟道沿源-漏方向逐渐变窄。如图 (a)所示。
增大到使 时,沟道在漏极一侧出现夹断点,称为预夹断。如图 (b)所示。
继续增大,夹断区随之延长,如图 (c)所示。 增大部分几乎全部用于克服夹断区对漏极电流的阻力。 不随 的增大而变化,管子进入恒流区, 决定于 。
N沟道耗尽型MOS管工作原理: 0,反型层变宽,沟道电阻变小, 增大;
0,反型层变窄,沟道电阻变大, 减小;
减小到一定值时,反型层消失,漏-源之间导电沟道消失, =0。此时的 称为夹断电压 。
?
P沟道增强型MOS管的开启电压 0,当 时管子才导通,漏-源之间应加负电源电压;
P沟道耗尽型MOS管的夹断电压 0, 可在正、可负值的一定范围内实现对 的控制,漏
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