边继明氮化铝性质及应其用.docVIP

氮化铝性质及其应用的最新进展 边继明 ( 大连理工大学物理与光电工程学院, 辽宁 大连 116024) 摘 要：从氮化铝的结构出发，分析了氮化铝的结构及性质，详细介绍了氮化铝在各个方面的应用，阐述了氮化铝薄膜及氮化铝陶瓷的制备过程及其在光电方面的应用。 关键词：氮化铝（ALN）结构；ALN薄膜；ALN陶瓷；ALN制备；光电器件 0 引 言 现代电子信息技术飞速发展,极大地推动着电子产品向多功能高性能、可靠性、小型化、便携化以及大众化普及所要求的低成本等方向发展。这些电子产品要经过合适的封装,才能达到所要求的电、热、光、机械等性能,满足使用要求[1] 薄膜作为特殊形态的材料，它的发展涉及几乎所有的前沿科学，又涉及到许多跨学科的理论基础。薄膜技术又是综合性的应用科学，已成为当代真空技术和材料科学中最活跃的研究领域，并渗透到微电子、信息、计算机、磁记录、能源、传感器、机械、航天航空、核工业、光学、太阳能利用等当代科技的各个方面。近几十年由于真空技术、薄膜材料与技术同表面物理相结合，促进了薄膜科学与技术的迅速发展。近年来世界薄膜产业飞速崛起推动了薄膜产品的开发与应用，可以说它正日益加深地影响着我们的生活。因而薄膜材料的研究既具有很强的理论意义又有广泛的应用价值。 精密陶瓷由于具有高机械強度、高温稳定性、耐磨耗及化学侵蚀，有些甚至具有良好的热传导性、电气绝缘性、压电性质、光学性质或生物