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材料合成与制备思考题 共沉淀法水热合成法化学气相沉积Ostwald Ripening Ostwald ripening是一种材料生长的机理，简单点说就是材料从分子阶段开始，首先形成一定尺寸的晶核，然后所有的分子都依附于晶核生长，这个阶段不会再形成新的晶核了，只是晶核生长的越来越大， 最经典的一种，就是 “从液态转变为固态的过程首先要成核，然后生长，这个过程叫晶粒的成核长大。晶粒内分子、原子都是有规则地排列的，所以一个晶粒就是单晶” 烧结Oriented attachment ripening Banfiled又提出了一种新的晶体生长机制也能形成单晶结构，oriented attachment, 多个取向不一致的单晶纳米颗，通过粒子的旋转，使得晶格取向一致，向后通过定向附着生长（oreinted attachment）使这些小单晶生长成为一个大单晶，当然定向附着的过程出难免会出现一些位错和缺陷，这种生长机理形成的单晶的特点同Ostwald ripening不同，OR形成的单晶大多是规则的，给材料本身晶体结构相关，而OA形成的单晶结构在形貌上则没有限制，任何形状和结构的单晶材料都能通过此机理形成。 物理气相沉积真空介电常数Langmuir-Blodgett制膜法功能材料 简述材料的纳米效应。简述分子束外延制备纳米薄膜的特点。简述冷冻干燥法制备材料的步骤。图示Sol-Gel法制备纳米颗粒的过程。 图示溅射过程的物理模型。 简述陶瓷注浆坯料中陈腐的作用。简述化学气相沉积的特点。在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而沉积固体； 可以在大气压（常压）或者低于大气压（低压）下进行沉积。一般说低压效果要好一些； 采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行； 镀层的化学成分可以改变，从而获得梯度沉积物或者得到混和镀层； 可以控制镀层的密度和纯度； 绕镀性好，可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀制； 气流条件通常是层流的，在基体表面形成厚的边界层； 沉积层通常具有柱状晶结构，不耐歪曲。但通过各种技术对化学反应进行气相扰动，可以得到细晶粒的等轴沉积层； 可以形成多种金属、合金、陶瓷和化合物层。简述冷冻干燥法制备材料的特点。冷冻干燥的： ②因为冷冻的液滴中仍保存着溶液中的离子混合状态，所以组成不发生分离，可实现原子级的完全混合。 ③用冷冻干燥法制备无水盐的工艺简单，此无水盐的热分解温度与其他方法制备的无水盐相比要低得多，还可避免水合盐溶化的问题。 ④用冷冻干燥法能得到多孔质粉体，热分解时气体放出容易，利用流动床煅烧时，气体透过性好。 ⑤用该法得到微粒子的大小为0.1～0.5μm冷冻干燥的 ②用玻璃制喷嘴把配好的盐水溶液喷射到被致冷剂冷却的冷浴中，急速冷冻。 ③把冷冻物放入预先冷却的烧瓶中，迅速接入真空系统。边冷冻，边减压排气，随即加热，使冰升华。 ④冷冻干燥物在一定温度下进行煅烧热分解，即得到所要求的化合物粉末。 简述玻璃脱色剂的种类和原理 脱色剂：用以减弱玻璃因铁化合物等杂质所引起的着色的物质 种类：主要有化学脱色剂和物力脱色剂两种。 化学脱色剂：它主要起氧化作用，使着色作用强烈的FeO(青绿色)氧化成Fe2O3(黄绿色)，降低着色程度，增加透明度。 常用的化学脱色剂为硝酸盐，三氧化二砷、三氧化二锑、二氧化铈、氟化物等。 物理脱色剂：它能产生与绿色或黄绿色的互补色，从而起到消色作用。 常用的物理脱色剂有硒和氧化钴、二氧化锰、氧化镍 简述水热与溶剂热合成化学的特点 ①由于反应物反应性能的改变、活性的提高，水热与溶剂热合成法有可能代替固相反应以及难于进行的合成反应，并产生一系列新的合成方法。 ②由于中间态、介稳态以及特殊物相易于生成，因此能合成特种介稳结构、特种凝聚态的新合成产物。 ③能够使低熔点化合物、高蒸气压且不能在融体中生成的物质、高温分解相在水热与溶剂热低温条件下晶化生成。 ④水热与溶剂热的低温、等压、溶液条件，有利于生长极少缺陷、取向好、完美的晶体，且合成产物结晶度高以及易于控制产物晶体的粒度。 ⑤由于易于调节水热与溶剂热条件下的环境气氛，因而有利于低价态、中间价态与特殊价态化合物的生成，并能均匀地进行掺杂。 简述化学气相沉积的特点。 镀层的化学成分可以改变，从而获得梯度沉积物或者得到混和镀层； 可以控制镀层的密度和纯度； 绕镀性好，可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀制； 气流条件通常是层流的，在基体表面形成厚的边界层； 沉积层通常具有柱状晶结构，不耐歪曲。但通过各种技术对化学反应进行气相扰动，可以得到细晶粒的等轴沉积层； 可以形成多种金属、合金、陶瓷和化合物层。什么是塑料薄膜的拉伸取向？简述双轴拉伸聚酯薄膜的生产工艺流程。拉伸取向是对塑料薄膜施以外力，使聚合物松弛的