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附4 华南理工大学 本科毕业设计（论文）开题报告 论文题目 _纳米薄膜的制备与光反射干涉法测试薄膜厚度和光学常数 班 级 2009级微电子2班 姓 名 谈锬 学 号 200931261314 指导教师 廖荣 开题时间 2013年3月15日 填表日期 2013年3月15日 开题报告内容： 一、背景和意义： 本次课题主要包括纳米薄膜的制备以及薄膜相关常数的测试两大部分组成，因此我将从制备和测试两大方面的背景和意义来进行论述。 纳米薄膜制备的背景和意义： 纳米薄膜是指尺寸在纳米量级的颗粒(晶粒)构成的薄膜或者层厚在纳米量级的单层或多层薄膜，通常也称作纳米颗粒薄膜和纳米多层薄膜[1]。纳米电子器件的尺寸为纳米级,集成度提高很大,同时还具备电子器件结构简单、成本较低、可靠性强等优点原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。[14] (碱性液：盐酸：双氧水：去离子水=l：2：8；酸性液：氨水：双氧水：去离子水=1：2：5)。 ②磁控溅射制备ZnO薄膜： 按前面玻璃基片的清洗流程把玻璃片清洗干净，然后经高纯N2气吹干，迅速放入溅射腔内，经过最初的反溅，才能开始ZnO层的溅射。采用溅射设备在清洗好的钠钙玻璃衬底上制备ZnO薄膜，靶材为ZnO靶，溅射气体为Ar(纯度为99.99％)。靶材与基片间的距离适当。当真空室本底真空度达到8.0×104Pa开始溅射镀膜。通过控制溅射功率和气体分压等条件控制薄膜的质量。 ③原子层沉积制备ZnO薄膜： 每次反应只沉积一层。原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应并形成沉积膜的一种方法（技术）。当前躯体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗[15]。本课题CIGS）太阳能电池的制备与提高性能的研究. 华南理工大学 [15] 吴宜勇，李邦盛，王春青. 单原子层沉积原理及其应用. 哈尔滨工业大学.电子工业专业设备.2005-04-12 [16] 阮伟东，王春旭，纪楠，徐蔚青，赵冰. 化学气相沉积法制备ZnO纳米结构薄膜及其 SERS活性研究. 高等学校化学学报. 2007.4 [17] 吴云沛，刘国营，罗时军. ZnO薄膜的溶胶-凝胶法制备及其光学性质研究. 湖北汽车工业学院学报. 2010-08-21 指导教师意见： 指导教师签名： 年 月 日 文献综述内容（与论文主题相关的国内外研究理论、研究方法、进展情况、存在问题、参考依据等）： 一、国内外研究理论： 纳米材料被当作一种非常小的“ 宏观物质” 表现出前所未有的特性，纳米技术和纳米材料集中体现了小尺寸，复杂构型，高集成度和强相互作用，以及高比表面积等现代科学技术发展的特点，是当代微电子工业的支柱。， 纳米薄膜对于某些金属及氧化物具有半导体光催化作用，对于破坏微观的细菌和气味有明显作用，还可以使癌细胞失活，对异味进行控制，对于氮的固化和清除油污染都十分有效。当它们被制成纳米膜结构，不仅坚固，而且具有自身对抗外界不纯物质的能力，不易与外界不纯物质结合， 且有嗜菌和抗菌的作用，在医疗保健方面有广阔的应用前景。 磁控溅射，原理电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），最初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Deposition，ALCVD）。原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。根据沉积前驱体和基体材料的不同，原子层沉积有两种不同的自限制机制，即化学吸附自限制（CS）和顺次反应自限制（RS）过程。第一种反应前驱体输入到基体材料表面并通过化学吸附（饱和吸附）保持在表面。当第二种前驱体通入反应器，起就会与已吸附于基体材料表面的第一前驱体发生反应。顺次反应自限制原子层沉积过程是通过活性前驱体物质与活性基体材料表面