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- 2017-02-28 发布于湖北
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四、速率理论 1956年荷兰学者范弟姆特(Van Deemter)等提出 该理论给出了影响塔板高度的因素 ——速率方程(也称范.弟姆特方程式) 涡流扩散项 分子/纵向扩散项 传质(阻力)项 流动相传质(Cmu) 固定相传质(Csu) u为流动相线速度; A,B,C为常数 减小A、B、C 三项可提高柱效; 2、速率理论方程 速率方程的修正 ——Giddings方程 (1)涡流扩散项(A) A=2 ? dp 因填充物颗粒大小及填充的不均匀性 同一组分运行路线长短不同 同一组分流出色谱柱时间不同 峰形展宽 柱填充不均匀性因子 填充物的平均直径 对于开管毛细管柱,无涡流扩散,A=0。 固定相颗粒越小,填充越均匀,A 越小,H越小,色谱峰变窄。 ——与固定相颗粒大小及柱填充均匀性有关的因素项 四、速率理论 3、气相色谱速率理论方程 四、速率理论 ——气相色谱速率理论方程 (2)纵向扩散项(B/u) 待测组分以“样品塞”的形式进入色谱柱,因浓差导致样品沿纵轴方向扩散使色谱峰展宽。 B/u=2 ? Dm / u 对 ?(阻碍因子)的讨论 ★ ?与柱填充的均匀性有关 ★ 对非柱填充柱, ?=1; 对填充柱, ?为0.5~0.7,平均为0.6 ★ 表示固定相几何形状对自由分子扩 散的阻碍情况 对Dm (组分在流动相 中的扩散系数)的讨论 ★
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