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纳米技术被定义为，由于纳米尺寸，材料及其体系的结构与组成表现出奇特而明显改变的物理、化学和生物性能、以及新的现象和工艺。 * 制造纳米结构和纳米材料的技术的分类： 按照生长介质划分： 气相生长，包括激光反应分解合成纳米粒子、原子层沉积形成薄膜等； 液相生长，包括胶质处理形成纳米粒子、自组织形成单分散层等； 固相生成，包括相分离形成玻璃基体中的金属颗粒、双光子诱导聚合化形成三维光子晶体等； 混合生长，包括纳米线的气-液-固生长等 * 按照产物类型进行划分： 纳米粒子，通过胶质处理、火焰燃烧和相分离技术合成； 纳米棒或纳米线，通过模板辅助电沉积，溶液-液相-固相生长技术，和自发各向异性生长的方式合成； 薄膜，通过分子束外延和原子层沉积技术合成； 纳米结构块体材料，例如自组织纳米颗粒形成光带隙晶体 * 纳米技术的出现 纳米技术并不“新”，结合了已经存在的技术、最近发展的原子水平的观察和操作能力，使其在科学、技术、商业、政治等领域引人注目 “纳米研究”已经开始几个世纪了！ 中国，上千年前将Au纳米粒子作为无机染料加入到陶瓷产品中 1857年，法拉第制备的Au胶质分散体，稳定存在了近1个世纪 纳米技术的“新”，体现在纳米尺度的观察和操纵能力，原子级相互作用的理解！ 1980年，扫描隧道显微镜（STM）的发明和发展 扫描探针显微镜（SPM），如原子力显微镜等 * 纳米技术的出现 纳米技术并不“新”，结合了已经存在的技术、最近发展的原子水平的观察和操作能力，使其在科学、技术、商业、政治等领域引人注目 “纳米研究”已经开始几个世纪了！ 中国，上千年前将Au纳米粒子作为无机染料加入到陶瓷产品中 1857年，法拉第制备的Au胶质分散体，稳定存在了近1个世纪 纳米技术的“新”，体现在纳米尺度的观察和操纵能力，原子级相互作用的理解！ 1980年，扫描隧道显微镜（STM）的发明和发展 扫描探针显微镜（SPM），如原子力显微镜等 * 摩尔定律 纳米技术热潮，是半导体工业的器件微型化、纳米尺度上表征和操纵的实用化，所部分驱使！ 晶体管尺寸每 18个月减小一倍 * 双功能分子连接Au尖和纳米晶体场发射扫描电镜FESEM图片 (a) 引入纳米晶体之前的金导线结构的场发射扫描电子显微照片。浅灰色区域由角蒸发沉积形成，其厚度~10 nm。深色区域由常规角蒸发沉积而成，厚度~70 nm。 (b) 由生物功能分子连接纳米晶和金导线的横截面示意图。导线之间的传输通过斑纹纳米晶桥梁作用而实现。 [D.L. Klein, P.L. McEuen, J.E. Bowen Katari, R. Roth, and A.P. Alivisatos, Appl. Phys. Lett. 68, 2574 (1996).] * 纳米结构制备的两大途径 :“自下而上” 和“自上而下” * Bottom Up（自下而上）vs. Top Down（自上而下） “Bottom Up” 通过原子、分子或团簇的逐步堆积而形成 — 聚合物，通过连接单体而形成 — 晶体生长中，原子、离子和分子与生长表面的碰撞聚集而成 进入纳米尺度，工具尺寸很大，难处理微小对象，Bottom up方法有效 可以获得缺陷少、化学成分均匀、较好的短程和长程有序的纳米结构 — Bottom up方法是由吉布斯自由能减小所驱动，获得的纳米结构和纳米材料接近于热力学平衡状态 “ Top Down” 最大的问题是表面结构的不完整 — 制备的纳米线不光滑，表面可能存在许多杂质和结构缺陷 — 这种缺陷对于其物理性能和表面化学起的举足轻重的作用 — 表面缺陷的非弹性散射导致电导下降，带来过热的产生 可能引入除了表面缺陷和污染以外的内部应力 * Bottom Up（自下而上）vs. Top Down（自上而下） “Bottom Up” 通过原子、分子或团簇的逐步堆积而形成 — 聚合物，通过连接单体而形成 — 晶体生长中，原子、离子和分子与生长表面的碰撞聚集而成 进入纳米尺度，工具尺寸很大，难处理微小对象，Bottom up方法有效 可以获得缺陷少、化学成分均匀、较好的短程和长程有序的纳米结构 — Bottom up方法是由吉布斯自由能减小所驱动，获得的纳米结构和纳米材料接近于热力学平衡状态 “ Top Down” 最大的问题是表面结构的不完整 — 制备的纳米线不光滑，表面可能存在许多杂质和结构缺陷 — 这种缺陷对于其物理性能和表面化学起的举足轻重的作用 — 表面缺陷的非弹性散射导致电导下降，带来过热的产生 可能引入除了表面缺陷和污染以外的内部应力 * 纳米加工技术双光子聚合