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真空镀膜 2005年上学期期末实验论文 物理学院：王飞 一、镀膜技术的历史 二、真空蒸镀铝膜 原理： 即在真空中将蒸镀材料加热蒸发产生蒸气，使其附着在基板上凝聚成薄膜。真空蒸镀属于物理气相沉积法。 三、高反射金属膜 1.金属膜反射原理： 金属中的外壳层电子(自由电子)并没有被原子核束缚, 当金属被光波照射时, 光波的电场使自由电子吸收了光的能量, 而产生与光相同频率的振荡, 此振荡又放出与原来光线相同频率的光, 称为光的反射。这种电子的振荡随着深度的增加而减小, 使电子振荡的振幅减小到原来1/e时(e为自然对数)的深度称为穿透深度, 此穿透深度决定了金属是透明还是反射, 通常大部份金属的穿透深度只有几十或几百纳米，穿透深度δ与金属的基本性质的关系如下公式: δ=sqrt(λ/πcμσ) ……. （1） λ：真空中光的波长， c：光速，μ：导磁系数，σ：静导电系数。由此公式可以了解,光线的波长愈长愈容易穿透金属, 金属的导电系数σ愈高, 穿透深度越浅反射率愈高。因此金属反射膜大都使用高导电率的金、银、铝与铜等材料。 2.金属膜的特点 四、法布里－珀罗干涉仪 用平面平行空气板产生多光束干涉的光学装置。是法布里和珀罗两人于1899年首次研制的。谐振腔由两块略带楔形的玻璃夹成，相向的两平面镀高反射膜，实验中我们所镀的是一般铝膜，由于铝膜并不外露，所以不需要加保护膜。平行膜面加工精度要求很高，与标准样板的偏差不允许超过1/20～1/50个波长。平行空气板厚度可用准确的厚度为d的环隔开。若该厚度可以改变，则称为法布里―珀罗干涉仪；若不能改变，称为法布里―珀罗标准具或法布里―珀罗光谱仪。 由f-p的光路图可以看出入射光在相对两面上反复反射和折射后产生多束相干涉反射光和透射光，透射光束在透镜?L′的焦面上叠加，形成等倾圆环状干涉条纹。 镀膜的厚度与蒸发器温度、形状、距蒸发源的距离，加热的时间等因素有关。 在蒸镀中要知道镀膜的情况还需要有膜厚检测装置。 蒸发器与膜厚检测装置是真空蒸镀实验中比较重要的部件。 1.蒸发器 蒸发器的加热温度要达到膜材料熔化的温度，其加热方式通常为电阻法、电子束法等。 电阻法是用高熔点金属做成适当的形状的加热器，并将膜材料放在上面加热，利用电流的热效应使加热器温度达到材料蒸发的温度，膜材料蒸发并淀积在基板上。 一些金属的蒸发温度 由上表可见大多数金属的蒸发温度都在1000度到2000度之间，而钨、钼的熔点都高于2000度，因此加热的金属材料一般都选钨、钼。 电阻法的缺点是膜材料于加热材料之间产生扩散或反应，使加热材料本身的熔点和蒸发点降低，以致造成镀得的膜层含有杂质。大多数膜材料在熔化后将于加热材料浸润。表面扩张，附着在加热器上形成面蒸发源，蒸发效果比较好。反之，若膜材料于加热材料不侵润，膜材料将融为一个液球，成为点蒸发源，如果加热器的形状不合适液球将从加热器上脱落下来，使蒸镀失败。因此蒸镀时要根据膜材料的性质，注意选择加热器的形状。 常用的几种加热器形状  2.膜厚检测装置 现在比较成熟有效的膜厚检测方法主要有两种：光学膜厚检测、石英晶体振荡式检测。 光学膜厚检测：镀层薄膜的透射率和反射率随着膜的厚度d的增加存在极大值和极小值，每增加四分之一波长时，出现透射和反射光强的变化，通过这一变数量计算膜厚。 石英晶体振荡式检测：石英片由一个固有的谐振频率，淀积在它表面的物质质量改变时，谐振频率发生变化，推算淀积层的厚度。 由三四节的分析可知，实验中控制镀膜厚度是最重要的。要控制镀膜的厚度，应该要求膜厚测量仪与膜材料蒸发器统一受控与同一系统，使这两部分装置协调工作、相互配合，当膜厚达到要求时立即停止加热，并冷却。这样才能有效地控制膜厚，使镀膜厚度达到光学仪器的设计要求。 六、真空蒸镀的现阶段的应用和发展 真空蒸镀除了镀制光学薄膜外，还被用于镀制软包装铝膜，它们以优异的机械物理、导电、光学美学，高阻隔、卫生、无味、经济、环保等性能被广泛地应用于食品、医药、种子、农药、通讯、电子、化工及军工等领域的包装材料。 此外真空蒸镀法还被应用于制备纳米材料。用真空蒸发、加热、高频感应等方法使原料气化或形成等粒子体，然后骤冷。其特点纯度高、结晶组织好、粒度可控，但技术设备要求高。 真空镀膜在光学领域及轻工包装领域及纳米材料领域里有广泛的适用空间，并且又有许多的新型真空镀膜技术不断出现。因此，真空镀膜将在以后有更大的发展前景。 虽然真空镀膜的装置已经发生了很大的变化，但是它的基本原理及各部分的基本功能仍然没有改变。 真空镀膜的实验原理比较简单，但实验具体操作起来有很多注意事项。另外由于镀膜非常薄，要求的工艺也比较高，除了主要装置真空室