(五)准分子雷射对帮浦源的要求.doc

指導教師:郭艷光(Yen-Kuang Kuo) 教授 學生:陳正忠 學號:8522026 系別:物理系 班級:三年級乙班 大綱: 前言 准分子基本概念 准分子雷射的種類 准分子雷射的特點 准分子能級結構 准分子雷射的結構介紹 准分子雷射對幫浦源的要求 准分子雷射常採用的幫浦方式 電子束幫浦的XeF准分子雷射 快速放電幫浦的XeF雷射 准分子雷射在醫療方面的應用 准分子雷射加工之應用 雷射武器與雷射同位素分離 結論 參考書目 前言: 自1970年第一台准分子雷射問世以來,人們研制成功了多種准分子雷射,並在同位素分離,雷射加工之應用,醫療應用等方面作出貢獻.在雷射武器研制方面,它是很有發展前途的雷射之一.迄今,准分子雷射越來越多,激勵方式也不斷的改進,功率和效率不斷提高.脈衝輸出能量已達百焦耳量級,脈衝峰值功率達千瓦以上,重複率達200次/秒,光束散角0.15mrad. 准分子基本概念: 准分子雷射的工作物質是准分子氣體.CO,N,等氣體分子,它們在一般狀態下,如果沒有外來影響,例如:加熱,光照或電子碰撞,不會自行分解成其他分子或粒子.准分子則不然.准分子就是一種處於激發態的複合分子.在標準狀態下,即在基態時,它處於分離狀態,而在激發態時,處於分子狀態.也就是說,這種分子只存在