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培训 高速数字电路设计 及EMC、EMI考虑 介绍 主题: 1.高速电路设计;2.EMC、EMI考虑 本次讲座中将介绍到的内容: 1.微带线、带状线的设计概念 2.常见的电路匹配措施 3.高速电路设计的一般原则和调试方法 电磁兼容考虑 (下一次交流) 第一个主题: 高速电路设计 高速数字信号的概念 1.高速数字信号由信号的边沿速度决定 2.上升时间小于4倍信号传输时延可视为高速信号 3.另一个角度理解:非稳定时间在1/4周期以上 第二个主题:微带线、带状线的设计概念 2.1微带线(Microstrip) 2.2带状线(Stripline) 2.3印制板的经验设计数据 2.4同轴线(Coaxial Cable) 2.5双绞线(Twisted-pair Cable) 2.1微带线(Microstrip) 微带线的模型: 微带线的决定参数:W,t,h,εr 微带线的相关参数:特征阻抗、传输延迟、固有电容、固有电感(见下一页) 规律:微带线传输延迟只与板材的介质参数和线长有关,而与板厚、线宽、特征阻抗等无关。 经验参数:微带线的传输延迟为0.145nS/inch 2.2带状线(Stripline) 带状线的模型: 带状线的决定参数:W,t,h,εr 带状线的相关参数:特征阻抗、传输延迟、固有电容、固有电感(下一页) 规律:带状线传输延迟只与板材的介质参数和线长有关,而与板厚、线宽、特征阻抗等无关。 经验参数:带状线的传输延迟为0.185nS/inch 2.3印制板的经验设计数据 常用印制电路板的材料:FR-4(εr在4.5~5之间) 75Ω微带线:w≈h;50Ω微带线:w≈2h;25Ω微带线:w≈3.5h; 75Ω带状线:w≈0.125h;50Ω带状线:w≈0.333h; 双面电路板一般厚度:1.68mm(66mil),铜层厚度:0.05mm(2mil) 四层板一般总厚度(中间厚,两边薄型):1.58mm(62mil),中间厚度:0.9mm(35mil) 上下夹层厚度:0.33mm(14mil),铜皮厚度:0.05mm(2mil) 印制板常用地微带线特征阻抗参考设计表 2.4同轴线(Coaxial Cable) 同轴线的模型: 同轴线的决定参数:d1,d2,εr 同轴线的相关参数:特征阻抗、传输延迟 规律:同轴线传输延迟只与电缆的介质参数和线长有关,而与线内径、线外径、特征阻抗等无关。线外径越细,特征阻抗越小;线内径越细,趋肤效应越明显。 经验参数:一般的宽频同轴线一空气为介质,50Ω同轴线外径/内径=2.3,75Ω同轴线外径/内径=3.5。插入介质时,可以将同轴线的外径减少,但增加了插入损耗,限制了频带。常用50Ω同轴线使用空心骨架方法,75Ω同轴线使用插入介质的方法。 2.5双绞线(Twisted-pair Cable) 双绞线的模型: 双绞线的决定参数:d,S,εr 双绞线的相关参数:特征阻抗、传输延迟 规律:双绞线传输延迟只与电缆的介质参数和线长有关,而与线内径、线间距离、特征阻抗等无关。 经验参数:一般双绞线特征阻抗为100Ω,胶合的越紧密,特征阻抗越均匀;平行线也可以看作是一种松胶合的双绞线,一般电视上的平行线特征阻抗为300Ω 第三个主题:常见的高速数字电路 常见的高速数字电路有 ECL(Emitter Coupled Logic)、 CML(Current Mode Logic)、 GTL(Gunning Transceiver Logic)、 BTL(Backplane Transceiver Logic)、 TTL(Tansistor Tansistor Logic)、 HCMOS(High-speed Complementary Metal Oxide Secmiconductor)、 LVDS(Low Voltage Differential Signaling) 等等 而我们设计中常用到的是后面三种 3.1高速TTL电路 驱动能力强,高电平输出电流可达32mA,低电平灌入电流可达64mA;高电平输出电阻一般为30Ω,低电平输出阻抗低达10Ω以下。 有阻尼输出现象(输出匹配电阻大概33Ω左右),高低电平电流均为12mA。 速度较快,上升时间在几个nS范围内,触发翻转频率可达100MHz以上,但是pin to pin时延常在10nS左右。 常用的高速TTL器件一般为AC、F、ACT、AL、等系列,F系列速度最高,但功耗也最大,带T的系列是低压3.3V器件。 3.2高速HCMOS电路 驱动能力较强,电平范围可达电源电压,高低电平驱动能力均等,输出阻抗在几个Ω到
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